Estudo de ligações químicas entre carbono, nitrogênio e oxigênio nos filmes de nitreto de carbono produzidos por RF magnetron sputtering reativo (2003)
- Authors:
- USP affiliated authors: MATSUOKA, MASAO - IF ; ISOTANI, SADAO - IF
- Unidade: IF
- Subjects: SUPERFÍCIE FÍSICA; FILMES FINOS
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Resumos
- Conference titles: Encontro Nacional de Física da Matéria Condensada 26
-
ABNT
MATSUOKA, Masao et al. Estudo de ligações químicas entre carbono, nitrogênio e oxigênio nos filmes de nitreto de carbono produzidos por RF magnetron sputtering reativo. 2003, Anais.. São Paulo: SBF, 2003. . Acesso em: 23 abr. 2024. -
APA
Matsuoka, M., Mittani, J. C., Lopes, K. C., Isotani, S., Pinto, R. C., & Mansano, R. D. (2003). Estudo de ligações químicas entre carbono, nitrogênio e oxigênio nos filmes de nitreto de carbono produzidos por RF magnetron sputtering reativo. In Resumos. São Paulo: SBF. -
NLM
Matsuoka M, Mittani JC, Lopes KC, Isotani S, Pinto RC, Mansano RD. Estudo de ligações químicas entre carbono, nitrogênio e oxigênio nos filmes de nitreto de carbono produzidos por RF magnetron sputtering reativo. Resumos. 2003 ;[citado 2024 abr. 23 ] -
Vancouver
Matsuoka M, Mittani JC, Lopes KC, Isotani S, Pinto RC, Mansano RD. Estudo de ligações químicas entre carbono, nitrogênio e oxigênio nos filmes de nitreto de carbono produzidos por RF magnetron sputtering reativo. Resumos. 2003 ;[citado 2024 abr. 23 ] - X-ray photoelectron spectroscopy analysis of zirconium nitride-like filmsprepared on Si(100) substrates by ion beam assisted deposition
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