Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd (1992)
- Authors:
- USP affiliated authors: OLIVEIRA, ELISABETH DE - IQ ; SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP ; SILVA, MARIA LUCIA PEREIRA DA - EP ; ESCOTE, ADOLFO TSUYAMA - EP ; SHIBATA, NEWTON YOSHIYUKI - EP
- Unidades: IQ; EP
- Assunto: VÁCUO (APLICAÇÕES INDUSTRIAIS)
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título: Resumos
- Conference titles: Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia
-
ABNT
SILVA, Maria Lucia Pereira da et al. Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd. 1992, Anais.. Campinas: Unicamp, 1992. . Acesso em: 30 dez. 2025. -
APA
Silva, M. L. P. da, Shibata, N. Y., Escote, A. T., Matsumura, W. T., Oliveira, E. de, & Swart, J. W. (1992). Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd. In Resumos. Campinas: Unicamp. -
NLM
Silva MLP da, Shibata NY, Escote AT, Matsumura WT, Oliveira E de, Swart JW. Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd. Resumos. 1992 ;[citado 2025 dez. 30 ] -
Vancouver
Silva MLP da, Shibata NY, Escote AT, Matsumura WT, Oliveira E de, Swart JW. Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd. Resumos. 1992 ;[citado 2025 dez. 30 ] - Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio
- Estudo da corrosao de 'SI''O POT.2'/'SI' em plasma de cf4 por espectrometria de massa e interferometria
- Corrosao de 'SI''O IND.2' por plasma de c'F IND.4': estudo espectroscopico
- Sistema Sn/Pb: impacto ambiental pelo uso de solda
- Estudo da adsorção de silício poroso
- Estudo da viabilidade técnica da utilização de microcanais para concentração de produtos químicos
- Quimica ionica de tetraetilortossilicato, tetrametilortossilicato e trimetilborato em fase gasosa e sua relevancia em microeletronica
- Análise de óxido de silício: identificação de compostos carbônicos. (em CD-Rom)
- Caracterização de filmes obtidos a partir da deposição de hexametildissilazana
- Uso de filme fino adsorvente para o desenvolvimento de sistemas de retenção de compostos orgânicos
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas