Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd (1992)
- Authors:
- USP affiliated authors: OLIVEIRA, ELISABETH DE - IQ ; SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP ; SILVA, MARIA LUCIA PEREIRA DA - EP ; ESCOTE, ADOLFO TSUYAMA - EP ; SHIBATA, NEWTON YOSHIYUKI - EP ; MATSUMURA, WELINGTON TOSHIYUKI - IF
- Unidades: IQ; EP; IF
- Assunto: VÁCUO (APLICAÇÕES INDUSTRIAIS)
- Language: Português
- Imprenta:
- Source:
- Título: Resumos
- Conference titles: Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia
-
ABNT
SILVA, Maria Lucia Pereira da et al. Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd. 1992, Anais.. Campinas: Unicamp, 1992. . Acesso em: 14 fev. 2026. -
APA
Silva, M. L. P. da, Shibata, N. Y., Escote, A. T., Matsumura, W. T., Oliveira, E. de, & Swart, J. W. (1992). Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd. In Resumos. Campinas: Unicamp. -
NLM
Silva MLP da, Shibata NY, Escote AT, Matsumura WT, Oliveira E de, Swart JW. Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd. Resumos. 1992 ;[citado 2026 fev. 14 ] -
Vancouver
Silva MLP da, Shibata NY, Escote AT, Matsumura WT, Oliveira E de, Swart JW. Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd. Resumos. 1992 ;[citado 2026 fev. 14 ] - Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio
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