Aplicação de filmes de siliceto de titanio na fabricação de transistores NMOS (1988)
- Authors:
- USP affiliated authors: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP ; SANTOS FILHO, SEBASTIAO GOMES DOS - EP
- Unidade: EP
- Assunto: TRANSISTORES (FABRICAÇÃO)
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Sbmicro/Epusp
- Publisher place: São Paulo
- Date published: 1988
- Source:
- Título: Anais
- Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica
-
ABNT
SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos e SWART, Jacobus Willibrordus. Aplicação de filmes de siliceto de titanio na fabricação de transistores NMOS. 1988, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1988. . Acesso em: 19 out. 2024. -
APA
Santos Filho, S. G. dos, & Swart, J. W. (1988). Aplicação de filmes de siliceto de titanio na fabricação de transistores NMOS. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp. -
NLM
Santos Filho SG dos, Swart JW. Aplicação de filmes de siliceto de titanio na fabricação de transistores NMOS. Anais. 1988 ;[citado 2024 out. 19 ] -
Vancouver
Santos Filho SG dos, Swart JW. Aplicação de filmes de siliceto de titanio na fabricação de transistores NMOS. Anais. 1988 ;[citado 2024 out. 19 ] - Experimental measurement technique of interconnection rd delay for integrated circuits using the step voltage response
- Use of the charge pumping technique for the evaluation of mosfet degradation due to stress in silicide / polysilicon double layer
- Formation and characterization of the Ni(Pt)Si and NiSi for MOS devices applications
- Rapid thermal flow of PSG films in vacuum using a graphite heater
- Medida experimental do atraso rc em linhas de interconexao
- Escoamento de filmes de psg para processamento térmico rápido em ambiente de vácuo
- Projeto e caracterizacao de um sistema rie e sua aplicacao na corrosao de tungstenio sobre 'GA''AS'
- Formation of nickel monosilicide onto (100) silicon wafer surfaces
- Analise da influencia de impurezas em filmes de 'CO' na formacao do siliceto
- Interconexoes e contatos em circuitos integrados
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas