Rapid thermal flow of PSG films in vacuum using a graphite heater (1990)
- Authors:
- USP affiliated authors: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP ; SANTOS FILHO, SEBASTIAO GOMES DOS - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1149/1.2086642
- Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher place: Pennington
- Date published: 1990
- Source:
- Título: Journal of the Electrochemical Society
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.137, n.4 , p.1252-5, apr. 1990
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos e SWART, Jacobus Willibrordus. Rapid thermal flow of PSG films in vacuum using a graphite heater. Journal of the Electrochemical Society, v. 137, n. 4 , p. 1252-5, 1990Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1149/1.2086642. Acesso em: 29 dez. 2025. -
APA
Santos Filho, S. G. dos, & Swart, J. W. (1990). Rapid thermal flow of PSG films in vacuum using a graphite heater. Journal of the Electrochemical Society, 137( 4 ), 1252-5. doi:10.1149/1.2086642 -
NLM
Santos Filho SG dos, Swart JW. Rapid thermal flow of PSG films in vacuum using a graphite heater [Internet]. Journal of the Electrochemical Society. 1990 ;137( 4 ): 1252-5.[citado 2025 dez. 29 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.2086642 -
Vancouver
Santos Filho SG dos, Swart JW. Rapid thermal flow of PSG films in vacuum using a graphite heater [Internet]. Journal of the Electrochemical Society. 1990 ;137( 4 ): 1252-5.[citado 2025 dez. 29 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.2086642 - Aplicação de filmes de siliceto de titanio na fabricação de transistores NMOS
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Informações sobre o DOI: 10.1149/1.2086642 (Fonte: oaDOI API)
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