Escoamento de filmes de psg para processamento térmico rápido em ambiente de vácuo (1987)
- Authors:
- USP affiliated authors: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP ; SANTOS FILHO, SEBASTIAO GOMES DOS - EP
- Unidade: EP
- Assunto: MICROELETRÔNICA
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Sbmicro/Epusp
- Publisher place: São Paulo
- Date published: 1987
- Source:
- Título do periódico: Anais
- Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica
-
ABNT
SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos e SWART, Jacobus Willibrordus. Escoamento de filmes de psg para processamento térmico rápido em ambiente de vácuo. 1987, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1987. . Acesso em: 19 abr. 2024. -
APA
Santos Filho, S. G. dos, & Swart, J. W. (1987). Escoamento de filmes de psg para processamento térmico rápido em ambiente de vácuo. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp. -
NLM
Santos Filho SG dos, Swart JW. Escoamento de filmes de psg para processamento térmico rápido em ambiente de vácuo. Anais. 1987 ;[citado 2024 abr. 19 ] -
Vancouver
Santos Filho SG dos, Swart JW. Escoamento de filmes de psg para processamento térmico rápido em ambiente de vácuo. Anais. 1987 ;[citado 2024 abr. 19 ] - Use of the charge pumping technique for the evaluation of mosfet degradation due to stress in silicide / polysilicon double layer
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