Dopagem de 'SI' com fósforo por tratamento térmico rápido (1987)
- Authors:
- Autor USP: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP
- Unidade: EP
- Subjects: SILÍCIO; TRATAMENTO TÉRMICO
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Sbmicro/Epusp
- Publisher place: São Paulo
- Date published: 1987
- Source:
- Título: Anais
- Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica
-
ABNT
SWART, Jacobus Willibrordus e SOUZA, J. P. e HASENACK, Claus Martin. Dopagem de 'SI' com fósforo por tratamento térmico rápido. 1987, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1987. . Acesso em: 08 jul. 2025. -
APA
Swart, J. W., Souza, J. P., & Hasenack, C. M. (1987). Dopagem de 'SI' com fósforo por tratamento térmico rápido. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp. -
NLM
Swart JW, Souza JP, Hasenack CM. Dopagem de 'SI' com fósforo por tratamento térmico rápido. Anais. 1987 ;[citado 2025 jul. 08 ] -
Vancouver
Swart JW, Souza JP, Hasenack CM. Dopagem de 'SI' com fósforo por tratamento térmico rápido. Anais. 1987 ;[citado 2025 jul. 08 ] - Analise da influencia de impurezas em filmes de 'CO' na formacao do siliceto
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