Fabrication and characterization of Teo2-ZnO rib waveguides (2010)
- Autores:
- Autores USP: MORIMOTO, NILTON ITIRO - EP ; BORGES, BEN HUR VIANA - EESC ; CACHO, VANESSA DUARTE DEL - EP
- Unidades: EP; EESC
- DOI: 10.1149/1.3474163
- Assunto: ELETROQUÍMICA
- Idioma: Inglês
- Imprenta:
- Local: New Jersey
- Data de publicação: 2010
- Fonte:
- Título do periódico: Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010
- ISSN: 1938-5862
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.31, n.1, p. 225-229, 2010
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
CACHO, Vanessa Duarte del et al. Fabrication and characterization of Teo2-ZnO rib waveguides. Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010, v. 31, n. 1, p. 225-229, 2010Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1149/1.3474163. Acesso em: 19 set. 2024. -
APA
Cacho, V. D. del, Siarkowski, A. L., Morimoto, N. I., Borges, B. -H. V., & Kassab, L. R. P. (2010). Fabrication and characterization of Teo2-ZnO rib waveguides. Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010, 31( 1), 225-229. doi:10.1149/1.3474163 -
NLM
Cacho VD del, Siarkowski AL, Morimoto NI, Borges B-HV, Kassab LRP. Fabrication and characterization of Teo2-ZnO rib waveguides [Internet]. Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010. 2010 ;31( 1): 225-229.[citado 2024 set. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.3474163 -
Vancouver
Cacho VD del, Siarkowski AL, Morimoto NI, Borges B-HV, Kassab LRP. Fabrication and characterization of Teo2-ZnO rib waveguides [Internet]. Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010. 2010 ;31( 1): 225-229.[citado 2024 set. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.3474163 - Fabrication of Ti-Si-Ti metal-semiconductor-metal photodetectors using low temperature rapid thermal annealing
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Informações sobre o DOI: 10.1149/1.3474163 (Fonte: oaDOI API)
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