Aerogel de SiO2 crescido por processos a plasma (2002)
- Autores:
- Autor USP: CARRENO, MARCELO NELSON PAEZ - EP
- Unidade: EP
- Assunto: ISOLAMENTO TÉRMICO
- Idioma: Português
- Imprenta:
- Fonte:
- Título do periódico: SIICUSP;CICTE: resumos
- Nome do evento: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da USP
-
ABNT
NASCIMBENI, Andre Zanetti e PAEZ CARREÑO, Marcelo Nelson. Aerogel de SiO2 crescido por processos a plasma. 2002, Anais.. São Paulo: USP, 2002. Disponível em: http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm. Acesso em: 18 set. 2024. -
APA
Nascimbeni, A. Z., & Paez Carreño, M. N. (2002). Aerogel de SiO2 crescido por processos a plasma. In SIICUSP;CICTE: resumos. São Paulo: USP. Recuperado de http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm -
NLM
Nascimbeni AZ, Paez Carreño MN. Aerogel de SiO2 crescido por processos a plasma [Internet]. SIICUSP;CICTE: resumos. 2002 ;[citado 2024 set. 18 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm -
Vancouver
Nascimbeni AZ, Paez Carreño MN. Aerogel de SiO2 crescido por processos a plasma [Internet]. SIICUSP;CICTE: resumos. 2002 ;[citado 2024 set. 18 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/10osiicusp/cd_2002/index01.htm - Formation of 3C-SIC films on silicon by thermal annealing process
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