Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio (1992)
- Authors:
- USP affiliated authors: SWART, JACOBUS WILLIBRORDUS - EP ; SILVA, MARIA LUCIA PEREIRA DA - EP ; ESCOTE, ADOLFO TSUYAMA - EP ; SHIBATA, NEWTON YOSHIYUKI - EP ; MORIMOTO, NILTON ITIRO - EP
- Unidade: EP
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Language: Português
- Imprenta:
- Publisher: Sbmicro/Epusp
- Publisher place: São Paulo
- Date published: 1992
- Source:
- Título do periódico: Anais
- Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica
-
ABNT
MORIMOTO, Nilton Itiro et al. Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 25 set. 2024. -
APA
Morimoto, N. I., Cardoso, A. R., Silva, M. L. P. da, Shibata, N. Y., Escote, A. T., Matsumura, W. T., & Swart, J. W. (1992). Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp. -
NLM
Morimoto NI, Cardoso AR, Silva MLP da, Shibata NY, Escote AT, Matsumura WT, Swart JW. Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. Anais. 1992 ;[citado 2024 set. 25 ] -
Vancouver
Morimoto NI, Cardoso AR, Silva MLP da, Shibata NY, Escote AT, Matsumura WT, Swart JW. Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. Anais. 1992 ;[citado 2024 set. 25 ] - Estudos de filmes finos de oxido de silicio depositados por r / pecvd
- Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd
- Estudo da corrosao de 'SI''O POT.2'/'SI' em plasma de cf4 por espectrometria de massa e interferometria
- Corrosao de 'SI''O IND.2' por plasma de c'F IND.4': estudo espectroscopico
- Sistema Sn/Pb: impacto ambiental pelo uso de solda
- Uso de filme fino adsorvente para o desenvolvimento de sistemas de retenção de compostos orgânicos
- Utilizacao da espectrometria de massa para estudo da corrosao por plasma em 'SI''O IND.2' por c'F IND.4'
- Desenvolvimento de equipamento para analise de contaminantes em garrafas retornaveis
- Low pressure gas-phase ion / molecule reactions of teos and tmos
- Quimica ionica de tetraetilortossilicato, tetrametilortossilicato e trimetilborato em fase gasosa e sua relevancia em microeletronica
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
