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Trabalho de evento
Study and characterization of a thick film of PMMA (polymethylmethacrylate) for application in integrated microoptics (2001)
Moraes, H. F.; Seabra, Antonio Carlos
Source: SBMicro 2001: proceedings. Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
MORAES, H. F. e SEABRA, Antonio Carlos. Study and characterization of a thick film of PMMA (polymethylmethacrylate) for application in integrated microoptics. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Moraes, H. F., & Seabra, A. C. (2001). Study and characterization of a thick film of PMMA (polymethylmethacrylate) for application in integrated microoptics. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Moraes HF, Seabra AC. Study and characterization of a thick film of PMMA (polymethylmethacrylate) for application in integrated microoptics. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Moraes HF, Seabra AC. Study and characterization of a thick film of PMMA (polymethylmethacrylate) for application in integrated microoptics. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Relatorio tecnico
O uso de resistes amplificados quimicamente e de sililação em litografia por feixe de elétrons (1997)
Seabra, Antonio Carlos ; Verdonck, Patrick Bernard
Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
SEABRA, Antonio Carlos e VERDONCK, Patrick Bernard. O uso de resistes amplificados quimicamente e de sililação em litografia por feixe de elétrons. . São Paulo: EPUSP. . Acesso em: 15 nov. 2025. , 1997
APA
Seabra, A. C., & Verdonck, P. B. (1997). O uso de resistes amplificados quimicamente e de sililação em litografia por feixe de elétrons. São Paulo: EPUSP.
NLM
Seabra AC, Verdonck PB. O uso de resistes amplificados quimicamente e de sililação em litografia por feixe de elétrons. 1997 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Seabra AC, Verdonck PB. O uso de resistes amplificados quimicamente e de sililação em litografia por feixe de elétrons. 1997 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Litografia para microelêtronica (1996)
Seabra, Antonio Carlos ; Inoki, C K
Source: Notas de Aula. Conference titles: Oficina de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
SEABRA, Antonio Carlos e INOKI, C K. Litografia para microelêtronica. 1996, Anais.. Campinas: Unicamp, 1996. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Seabra, A. C., & Inoki, C. K. (1996). Litografia para microelêtronica. In Notas de Aula. Campinas: Unicamp.
NLM
Seabra AC, Inoki CK. Litografia para microelêtronica. Notas de Aula. 1996 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Seabra AC, Inoki CK. Litografia para microelêtronica. Notas de Aula. 1996 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
E-beam direct-write using a chemically amplified negative tone resist (1994)
Seabra, Antonio Carlos ; Jonckheere, R; Van der Hove, L
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
SEABRA, Antonio Carlos e JONCKHEERE, R e VAN DER HOVE, L. E-beam direct-write using a chemically amplified negative tone resist. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Seabra, A. C., Jonckheere, R., & Van der Hove, L. (1994). E-beam direct-write using a chemically amplified negative tone resist. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Seabra AC, Jonckheere R, Van der Hove L. E-beam direct-write using a chemically amplified negative tone resist. Anais. 1994 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Seabra AC, Jonckheere R, Van der Hove L. E-beam direct-write using a chemically amplified negative tone resist. Anais. 1994 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Obtenção de fontes e drenos em processo CMOS sem implantação de boro no silício policristalino de porta (1987)
Martino, João Antonio ; Seabra, Antonio Carlos ; Swart, Jacobus Willibrordus; Braz, Ivan Carlos; Favoretto, K
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Subjects: CIRCUITOS INTEGRADOS, SILÍCIO, MICROELETRÔNICA
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ABNT
MARTINO, João Antonio et al. Obtenção de fontes e drenos em processo CMOS sem implantação de boro no silício policristalino de porta. 1987, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1987. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Martino, J. A., Seabra, A. C., Swart, J. W., Braz, I. C., & Favoretto, K. (1987). Obtenção de fontes e drenos em processo CMOS sem implantação de boro no silício policristalino de porta. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Martino JA, Seabra AC, Swart JW, Braz IC, Favoretto K. Obtenção de fontes e drenos em processo CMOS sem implantação de boro no silício policristalino de porta. Anais. 1987 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Martino JA, Seabra AC, Swart JW, Braz IC, Favoretto K. Obtenção de fontes e drenos em processo CMOS sem implantação de boro no silício policristalino de porta. Anais. 1987 ;[citado 2025 nov. 15 ]

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