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Trabalho de evento
Electrical characterization of thin nickel films obtained from electroless plating onto aluminum gate of MOS capacitors (2000)
Navia, Alan Rodrigo; Sonnenberg, Victor ; Marques, Angelo Eduardo Battistini; Santos Filho, Sebastião Gomes dos ; Martino, João Antonio
Fonte: SBMicro 2000 : proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
NAVIA, Alan Rodrigo et al. Electrical characterization of thin nickel films obtained from electroless plating onto aluminum gate of MOS capacitors. 2000, Anais.. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP, 2000. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Navia, A. R., Sonnenberg, V., Marques, A. E. B., Santos Filho, S. G. dos, & Martino, J. A. (2000). Electrical characterization of thin nickel films obtained from electroless plating onto aluminum gate of MOS capacitors. In SBMicro 2000 : proceedings. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP.
NLM
Navia AR, Sonnenberg V, Marques AEB, Santos Filho SG dos, Martino JA. Electrical characterization of thin nickel films obtained from electroless plating onto aluminum gate of MOS capacitors. SBMicro 2000 : proceedings. 2000 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Navia AR, Sonnenberg V, Marques AEB, Santos Filho SG dos, Martino JA. Electrical characterization of thin nickel films obtained from electroless plating onto aluminum gate of MOS capacitors. SBMicro 2000 : proceedings. 2000 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Morphological characterization of electroless nickel films onto aluminum surfaces (2000)
Marques, Angelo Eduardo Battistini; Santos Filho, Sebastião Gomes dos
Fonte: SBMicro 2000 : proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
MARQUES, Angelo Eduardo Battistini e SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos. Morphological characterization of electroless nickel films onto aluminum surfaces. 2000, Anais.. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP, 2000. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Marques, A. E. B., & Santos Filho, S. G. dos. (2000). Morphological characterization of electroless nickel films onto aluminum surfaces. In SBMicro 2000 : proceedings. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP.
NLM
Marques AEB, Santos Filho SG dos. Morphological characterization of electroless nickel films onto aluminum surfaces. SBMicro 2000 : proceedings. 2000 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Marques AEB, Santos Filho SG dos. Morphological characterization of electroless nickel films onto aluminum surfaces. SBMicro 2000 : proceedings. 2000 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Artigo de periodico
A less critical cleaning procedure for silicon wafers using diluted hf dip and boiling in isopropil alcohol as final steps (1995)
Santos Filho, Sebastião Gomes dos ; Hasenack, Claus Martin; Salay, Luiz Carlos; Mertens, Paul
Fonte: Journal of the Electrochemical Society. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos et al. A less critical cleaning procedure for silicon wafers using diluted hf dip and boiling in isopropil alcohol as final steps. Journal of the Electrochemical Society, v. 142, n. 3 , p. 902-7, 1995Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1149/1.2048555. Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Santos Filho, S. G. dos, Hasenack, C. M., Salay, L. C., & Mertens, P. (1995). A less critical cleaning procedure for silicon wafers using diluted hf dip and boiling in isopropil alcohol as final steps. Journal of the Electrochemical Society, 142( 3 ), 902-7. doi:10.1149/1.2048555
NLM
Santos Filho SG dos, Hasenack CM, Salay LC, Mertens P. A less critical cleaning procedure for silicon wafers using diluted hf dip and boiling in isopropil alcohol as final steps [Internet]. Journal of the Electrochemical Society. 1995 ;142( 3 ): 902-7.[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.2048555
Vancouver
Santos Filho SG dos, Hasenack CM, Salay LC, Mertens P. A less critical cleaning procedure for silicon wafers using diluted hf dip and boiling in isopropil alcohol as final steps [Internet]. Journal of the Electrochemical Society. 1995 ;142( 3 ): 902-7.[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.2048555
Artigo de periodico
Projeto de um inversor básico de uma tecnologia NMOS com carga em depleção (1987)
Martino, João Antonio ; Santos Filho, Sebastião Gomes dos
Fonte: Revista Pesquisa e Tecnologia Fei. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
MARTINO, João Antonio e SANTOS FILHO, Sebastião Gomes dos. Projeto de um inversor básico de uma tecnologia NMOS com carga em depleção. Revista Pesquisa e Tecnologia Fei, n. 7 , p. 10-9, 1987Tradução . . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Martino, J. A., & Santos Filho, S. G. dos. (1987). Projeto de um inversor básico de uma tecnologia NMOS com carga em depleção. Revista Pesquisa e Tecnologia Fei, (7 ), 10-9.
NLM
Martino JA, Santos Filho SG dos. Projeto de um inversor básico de uma tecnologia NMOS com carga em depleção. Revista Pesquisa e Tecnologia Fei. 1987 ;(7 ): 10-9.[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Martino JA, Santos Filho SG dos. Projeto de um inversor básico de uma tecnologia NMOS com carga em depleção. Revista Pesquisa e Tecnologia Fei. 1987 ;(7 ): 10-9.[citado 2025 nov. 15 ]

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