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Relatorio tecnico
Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system (1996)
Osorio, Sergio Paulo Amaral; Zasnicoff, Luiz Sergio
Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
OSORIO, Sergio Paulo Amaral e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system. . Sao Paulo: Epusp. . Acesso em: 09 out. 2024. , 1996
APA
Osorio, S. P. A., & Zasnicoff, L. S. (1996). Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system. Sao Paulo: Epusp.
NLM
Osorio SPA, Zasnicoff LS. Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system. 1996 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Osorio SPA, Zasnicoff LS. Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system. 1996 ;[citado 2024 out. 09 ]
Trabalho de evento
Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system (1995)
Osorio, S P A; Zasnicoff, Luiz Sergio
Source: Proceedings. Conference titles: Congress of the Brazilian Microelectronics Society. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
OSORIO, S P A e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system. 1995, Anais.. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs, 1995. . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Osorio, S. P. A., & Zasnicoff, L. S. (1995). Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system. In Proceedings. Porto Alegre: Instituto de Informatica da Ufrgs.
NLM
Osorio SPA, Zasnicoff LS. Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system. Proceedings. 1995 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Osorio SPA, Zasnicoff LS. Reactively-sputtered tin formation using fr magnetron system. Proceedings. 1995 ;[citado 2024 out. 09 ]
Trabalho de evento
Estudo da deposicao de filmes de sog (spin-on-glass) (1993)
Zaia, G V; Zasnicoff, Luiz Sergio
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZAIA, G V e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Estudo da deposicao de filmes de sog (spin-on-glass). 1993, Anais.. Campinas: Sbmicro, 1993. . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Zaia, G. V., & Zasnicoff, L. S. (1993). Estudo da deposicao de filmes de sog (spin-on-glass). In Anais. Campinas: Sbmicro.
NLM
Zaia GV, Zasnicoff LS. Estudo da deposicao de filmes de sog (spin-on-glass). Anais. 1993 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Zaia GV, Zasnicoff LS. Estudo da deposicao de filmes de sog (spin-on-glass). Anais. 1993 ;[citado 2024 out. 09 ]
Trabalho de evento
Experimental study of preoxidation cleaning effects on the oxide growth rate (1992)
Chen, H; Zasnicoff, Luiz Sergio
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
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ABNT
CHEN, H e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Experimental study of preoxidation cleaning effects on the oxide growth rate. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Chen, H., & Zasnicoff, L. S. (1992). Experimental study of preoxidation cleaning effects on the oxide growth rate. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Chen H, Zasnicoff LS. Experimental study of preoxidation cleaning effects on the oxide growth rate. Anais. 1992 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Chen H, Zasnicoff LS. Experimental study of preoxidation cleaning effects on the oxide growth rate. Anais. 1992 ;[citado 2024 out. 09 ]
Parte de monografia/livro
Processos mos (1990)
Zasnicoff, Luiz Sergio
Source: Processos de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZASNICOFF, Luiz Sergio. Processos mos. Processos de Microeletronica. Tradução . Campinas: Sociedade Brasileira de Microeletronica/Sbmicro, 1990. . . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Zasnicoff, L. S. (1990). Processos mos. In Processos de Microeletronica. Campinas: Sociedade Brasileira de Microeletronica/Sbmicro.
NLM
Zasnicoff LS. Processos mos. In: Processos de Microeletronica. Campinas: Sociedade Brasileira de Microeletronica/Sbmicro; 1990. [citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Zasnicoff LS. Processos mos. In: Processos de Microeletronica. Campinas: Sociedade Brasileira de Microeletronica/Sbmicro; 1990. [citado 2024 out. 09 ]
Trabalho de evento
Características principais da ilha n de uma tecnologia cmos: projeto e resultados experimentais (1988)
Zasnicoff, Luiz Sergio; Ely, Hélio José Fonseca; Molina Torres, L C
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS MOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZASNICOFF, Luiz Sergio e ELY, Hélio José Fonseca e MOLINA TORRES, L C. Características principais da ilha n de uma tecnologia cmos: projeto e resultados experimentais. 1988, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1988. . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Zasnicoff, L. S., Ely, H. J. F., & Molina Torres, L. C. (1988). Características principais da ilha n de uma tecnologia cmos: projeto e resultados experimentais. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Zasnicoff LS, Ely HJF, Molina Torres LC. Características principais da ilha n de uma tecnologia cmos: projeto e resultados experimentais. Anais. 1988 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Zasnicoff LS, Ely HJF, Molina Torres LC. Características principais da ilha n de uma tecnologia cmos: projeto e resultados experimentais. Anais. 1988 ;[citado 2024 out. 09 ]
Trabalho de evento
Tecnologia CMOS /NMOS de 3'MI'm ; aspectos de projeto e primeiros resultados (1988)
Molina Torres, L C; Vale Neto, José Vieira do; Zasnicoff, Luiz Sergio; Pereira, J A A M
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS MOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
MOLINA TORRES, L C et al. Tecnologia CMOS /NMOS de 3'MI'm ; aspectos de projeto e primeiros resultados. 1988, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1988. . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Molina Torres, L. C., Vale Neto, J. V. do, Zasnicoff, L. S., & Pereira, J. A. A. M. (1988). Tecnologia CMOS /NMOS de 3'MI'm ; aspectos de projeto e primeiros resultados. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Molina Torres LC, Vale Neto JV do, Zasnicoff LS, Pereira JAAM. Tecnologia CMOS /NMOS de 3'MI'm ; aspectos de projeto e primeiros resultados. Anais. 1988 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Molina Torres LC, Vale Neto JV do, Zasnicoff LS, Pereira JAAM. Tecnologia CMOS /NMOS de 3'MI'm ; aspectos de projeto e primeiros resultados. Anais. 1988 ;[citado 2024 out. 09 ]
Trabalho de evento
Dependencia da tensao de limiar de transistores tipo deplecao com canal n implantado, na reducao da geometria do dispositivo (1988)
Zasnicoff, Luiz Sergio; Andrade, Carlos Américo Morato de
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidades: IEE, EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZASNICOFF, Luiz Sergio e ANDRADE, Carlos Américo Morato de. Dependencia da tensao de limiar de transistores tipo deplecao com canal n implantado, na reducao da geometria do dispositivo. 1988, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1988. . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Zasnicoff, L. S., & Andrade, C. A. M. de. (1988). Dependencia da tensao de limiar de transistores tipo deplecao com canal n implantado, na reducao da geometria do dispositivo. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Zasnicoff LS, Andrade CAM de. Dependencia da tensao de limiar de transistores tipo deplecao com canal n implantado, na reducao da geometria do dispositivo. Anais. 1988 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Zasnicoff LS, Andrade CAM de. Dependencia da tensao de limiar de transistores tipo deplecao com canal n implantado, na reducao da geometria do dispositivo. Anais. 1988 ;[citado 2024 out. 09 ]
Artigo de periodico
Processo nmos de alto desempenho eletrico: caracterizacao dos principais parametros (1988)
Andrade, Carlos Américo Morato de; Zasnicoff, Luiz Sergio
Source: Anais Epusp. Serie B: Engenharia de Eletricidade. Unidades: IEE, EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ANDRADE, Carlos Américo Morato de e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Processo nmos de alto desempenho eletrico: caracterizacao dos principais parametros. Anais Epusp. Serie B: Engenharia de Eletricidade, v. 1 , p. 237-51, 1988Tradução . . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Andrade, C. A. M. de, & Zasnicoff, L. S. (1988). Processo nmos de alto desempenho eletrico: caracterizacao dos principais parametros. Anais Epusp. Serie B: Engenharia de Eletricidade, 1 , 237-51.
NLM
Andrade CAM de, Zasnicoff LS. Processo nmos de alto desempenho eletrico: caracterizacao dos principais parametros. Anais Epusp. Serie B: Engenharia de Eletricidade. 1988 ;1 237-51.[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Andrade CAM de, Zasnicoff LS. Processo nmos de alto desempenho eletrico: caracterizacao dos principais parametros. Anais Epusp. Serie B: Engenharia de Eletricidade. 1988 ;1 237-51.[citado 2024 out. 09 ]
Relatorio tecnico
Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: definição da sequência do processo de fabricação (1987)
Zasnicoff, Luiz Sergio; Molina Torres, L C
Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZASNICOFF, Luiz Sergio e MOLINA TORRES, L C. Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: definição da sequência do processo de fabricação. . São Paulo: Lme-Usp. . Acesso em: 09 out. 2024. , 1987
APA
Zasnicoff, L. S., & Molina Torres, L. C. (1987). Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: definição da sequência do processo de fabricação. São Paulo: Lme-Usp.
NLM
Zasnicoff LS, Molina Torres LC. Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: definição da sequência do processo de fabricação. 1987 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Zasnicoff LS, Molina Torres LC. Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: definição da sequência do processo de fabricação. 1987 ;[citado 2024 out. 09 ]
Tese (Doutorado)
Desenvolvimento de um processo NMOS de alto desempenho: análise, caracterização e extração de parâmetros elétricos e tecnológicos (1987)
Zasnicoff, Luiz Sergio; Andrade, Carlos Américo Morato de (Orientador)
Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS MOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZASNICOFF, Luiz Sergio. Desenvolvimento de um processo NMOS de alto desempenho: análise, caracterização e extração de parâmetros elétricos e tecnológicos. 1987. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1987. . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Zasnicoff, L. S. (1987). Desenvolvimento de um processo NMOS de alto desempenho: análise, caracterização e extração de parâmetros elétricos e tecnológicos (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Zasnicoff LS. Desenvolvimento de um processo NMOS de alto desempenho: análise, caracterização e extração de parâmetros elétricos e tecnológicos. 1987 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Zasnicoff LS. Desenvolvimento de um processo NMOS de alto desempenho: análise, caracterização e extração de parâmetros elétricos e tecnológicos. 1987 ;[citado 2024 out. 09 ]
Relatorio tecnico
Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: estudo da ilha n (1987)
Ely, Hélio José Fonseca; Zasnicoff, Luiz Sergio; Molina Torres, L C
Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ELY, Hélio José Fonseca e ZASNICOFF, Luiz Sergio e MOLINA TORRES, L C. Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: estudo da ilha n. . São Paulo: Lme-Usp. . Acesso em: 09 out. 2024. , 1987
APA
Ely, H. J. F., Zasnicoff, L. S., & Molina Torres, L. C. (1987). Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: estudo da ilha n. São Paulo: Lme-Usp.
NLM
Ely HJF, Zasnicoff LS, Molina Torres LC. Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: estudo da ilha n. 1987 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Ely HJF, Zasnicoff LS, Molina Torres LC. Tecnologia CMOS /NMOS de 3 micra: estudo da ilha n. 1987 ;[citado 2024 out. 09 ]
Relatorio tecnico
Tecnologia CMOS/NMOS de 3 micra: concepção do processo de fabricação (1987)
Zasnicoff, Luiz Sergio; Molina Torres, L C
Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZASNICOFF, Luiz Sergio e MOLINA TORRES, L C. Tecnologia CMOS/NMOS de 3 micra: concepção do processo de fabricação. . São Paulo: Lme-Usp. . Acesso em: 09 out. 2024. , 1987
APA
Zasnicoff, L. S., & Molina Torres, L. C. (1987). Tecnologia CMOS/NMOS de 3 micra: concepção do processo de fabricação. São Paulo: Lme-Usp.
NLM
Zasnicoff LS, Molina Torres LC. Tecnologia CMOS/NMOS de 3 micra: concepção do processo de fabricação. 1987 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Zasnicoff LS, Molina Torres LC. Tecnologia CMOS/NMOS de 3 micra: concepção do processo de fabricação. 1987 ;[citado 2024 out. 09 ]
Dissertação (Mestrado)
Projeto e construção de retificadores controlados de silício utilizando a técnica de tripla difusão (1974)
Zasnicoff, Luiz Sergio; Zuffo, João Antonio (Orientador)
Unidade: EP
Assunto: SILÍCIO
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
ZASNICOFF, Luiz Sergio. Projeto e construção de retificadores controlados de silício utilizando a técnica de tripla difusão. 1974. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1974. . Acesso em: 09 out. 2024.
APA
Zasnicoff, L. S. (1974). Projeto e construção de retificadores controlados de silício utilizando a técnica de tripla difusão (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Zasnicoff LS. Projeto e construção de retificadores controlados de silício utilizando a técnica de tripla difusão. 1974 ;[citado 2024 out. 09 ]
Vancouver
Zasnicoff LS. Projeto e construção de retificadores controlados de silício utilizando a técnica de tripla difusão. 1974 ;[citado 2024 out. 09 ]

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