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Trabalho de evento-resumo
Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films (2004)
Criado, Denise ; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu
Source: Program. Conference titles: Encontro da SBPMat. Unidades: IF, EP
Subjects: MATERIAIS, FILMES FINOS, ESPECTROSCOPIA DE RAIO X
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ABNT
CRIADO, Denise et al. Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films. 2004, Anais.. São Carlos: SBPMat, 2004. Disponível em: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf. Acesso em: 10 ago. 2024.
APA
Criado, D., Alayo Chávez, M. I., Pereyra, I., & Fantini, M. C. de A. (2004). Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films. In Program. São Carlos: SBPMat. Recuperado de http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf
NLM
Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films [Internet]. Program. 2004 ;[citado 2024 ago. 10 ] Available from: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf
Vancouver
Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Xanes characterization in PECVD-SiOxNy films [Internet]. Program. 2004 ;[citado 2024 ago. 10 ] Available from: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf
Trabalho de evento-resumo
Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress (2004)
Criado, Denise ; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu
Source: Program. Conference titles: Encontro da SBPMat. Unidades: IF, EP
Subjects: MATERIAIS, FILMES FINOS
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ABNT
CRIADO, Denise et al. Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress. 2004, Anais.. São Carlos: SBPMat, 2004. Disponível em: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf. Acesso em: 10 ago. 2024.
APA
Criado, D., Alayo Chávez, M. I., Pereyra, I., & Fantini, M. C. de A. (2004). Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress. In Program. São Carlos: SBPMat. Recuperado de http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf
NLM
Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress [Internet]. Program. 2004 ;[citado 2024 ago. 10 ] Available from: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf
Vancouver
Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Study of silicon oxynitride films with low mechanical stress [Internet]. Program. 2004 ;[citado 2024 ago. 10 ] Available from: http://www.sbpmat.org.br/3meeting/simposio_b.pdf
Artigo de periodico
Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD (2004)
Criado, Denise ; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Pereyra, Inés ; Fantini, Márcia Carvalho de Abreu
Source: Materials Science and Engineering B. Unidades: IF, EP
Subjects: MATERIAIS, MATÉRIA CONDENSADA, FILMES FINOS, FÍSICA DE PLASMAS
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ABNT
CRIADO, Denise et al. Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD. Materials Science and Engineering B, 2004Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.mseb.2004.05.017. Acesso em: 10 ago. 2024.
APA
Criado, D., Alayo Chávez, M. I., Pereyra, I., & Fantini, M. C. de A. (2004). Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD. Materials Science and Engineering B. doi:10.1016/j.mseb.2004.05.017
NLM
Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD [Internet]. Materials Science and Engineering B. 2004 ;[citado 2024 ago. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.mseb.2004.05.017
Vancouver
Criado D, Alayo Chávez MI, Pereyra I, Fantini MC de A. Structural analysis of silicon oxynitride films deposited by PECVD [Internet]. Materials Science and Engineering B. 2004 ;[citado 2024 ago. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.mseb.2004.05.017
Trabalho de evento-resumo
Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados (2004)
Siqueira, Vinícius Valério de; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Iguchi, Kleber; Pereyra, Inés
Source: SIICUSP 2004: resumos.. Conference titles: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da Universidade de São Paulo. Unidade: EP
Assunto: DISPOSITIVOS ÓPTICOS
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ABNT
SIQUEIRA, Vinícius Valério de et al. Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados. 2004, Anais.. São Paulo: USP, 2004. Disponível em: http://www.usp.br/siicusp/12osiicusp/index_2004.htm. Acesso em: 10 ago. 2024.
APA
Siqueira, V. V. de, Alayo Chávez, M. I., Iguchi, K., & Pereyra, I. (2004). Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados. In SIICUSP 2004: resumos.. São Paulo: USP. Recuperado de http://www.usp.br/siicusp/12osiicusp/index_2004.htm
NLM
Siqueira VV de, Alayo Chávez MI, Iguchi K, Pereyra I. Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados [Internet]. SIICUSP 2004: resumos. 2004 ;[citado 2024 ago. 10 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/12osiicusp/index_2004.htm
Vancouver
Siqueira VV de, Alayo Chávez MI, Iguchi K, Pereyra I. Otimização dos processos de lixamento e polimento em dispositivos ópticos integrados [Internet]. SIICUSP 2004: resumos. 2004 ;[citado 2024 ago. 10 ] Available from: http://www.usp.br/siicusp/12osiicusp/index_2004.htm

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