Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscaras/retículos usando gerador de padrões (1996)
Unidade: EPAssunto: MICROELETRÔNICA
ABNT
SEKI, Jorge. Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscaras/retículos usando gerador de padrões. 1996. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1996. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27082024-111155/pt-br.php. Acesso em: 09 out. 2024.APA
Seki, J. (1996). Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscaras/retículos usando gerador de padrões (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27082024-111155/pt-br.phpNLM
Seki J. Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscaras/retículos usando gerador de padrões [Internet]. 1996 ;[citado 2024 out. 09 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27082024-111155/pt-br.phpVancouver
Seki J. Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscaras/retículos usando gerador de padrões [Internet]. 1996 ;[citado 2024 out. 09 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27082024-111155/pt-br.php