Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscaras/retículos usando gerador de padrões (1996)
- Authors:
- Autor USP: SEKI, JORGE - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PEE
- Assunto: MICROELETRÔNICA
- Language: Português
- Abstract: Este trabalho fundamenta-se no estudo do gerador de padrões óptico micropattern printer Research Devices Instruments (RDI) modelo imagem 100, instalado no Laboratório de Microeletrônica da EPUSP (LME-EPUSP), para o desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscaras/retículos de baixa complexidade com resoluções próximas a duas micra, melhorando muito o sistema fotolitográfico tradicionalmente utilizado no laboratório. Após a instalação do gerador de padrões e a inicialização dos trabalhos com o equipamento (projeto gepa - gerador de padrões), duas foram as dificuldades imediatas encontradas: os critérios de definição dos parâmetros de processo para o fotorresiste exposto no gerador de padrões e a definição dos parâmetros de exposição corretos com o equipamento, dentre as inúmeras possibilidades que o equipamento permitia. As dimensões de trabalho que se pretendiam com o equipamento tornavam o processo fotolitográfico crítico e fora dos padrões usuais do laboratório. Deparamos com uma falta, tanto do esclarecimento sobre algumas etapas do processo fotolitográfico, como também do conhecimento sobre o sistema óptico de exposição do equipamento. Devido a estas dificuldades básicas este trabalho foi proposto.
- Imprenta:
- Data da defesa: 27.02.1996
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ABNT
SEKI, Jorge. Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscaras/retículos usando gerador de padrões. 1996. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1996. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27082024-111155/pt-br.php. Acesso em: 01 mar. 2026. -
APA
Seki, J. (1996). Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscaras/retículos usando gerador de padrões (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27082024-111155/pt-br.php -
NLM
Seki J. Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscaras/retículos usando gerador de padrões [Internet]. 1996 ;[citado 2026 mar. 01 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27082024-111155/pt-br.php -
Vancouver
Seki J. Desenvolvimento de técnica de confecção de fotomáscaras/retículos usando gerador de padrões [Internet]. 1996 ;[citado 2026 mar. 01 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-27082024-111155/pt-br.php
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