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Tese (Doutorado)
Estudo de viabilidade de integração de micro-lâmpadas incandescentes com filtros interferenciais (2011)
Báez Medina, Héctor; Alayo Chávez, Marco Isaías (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: ÓPTICA ELETRÔNICA, MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
BÁEZ MEDINA, Héctor. Estudo de viabilidade de integração de micro-lâmpadas incandescentes com filtros interferenciais. 2011. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2011. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01092011-155430/. Acesso em: 13 nov. 2024.
APA
Báez Medina, H. (2011). Estudo de viabilidade de integração de micro-lâmpadas incandescentes com filtros interferenciais (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01092011-155430/
NLM
Báez Medina H. Estudo de viabilidade de integração de micro-lâmpadas incandescentes com filtros interferenciais [Internet]. 2011 ;[citado 2024 nov. 13 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01092011-155430/
Vancouver
Báez Medina H. Estudo de viabilidade de integração de micro-lâmpadas incandescentes com filtros interferenciais [Internet]. 2011 ;[citado 2024 nov. 13 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-01092011-155430/
Dissertação (Mestrado)
Desenvolvimento de processo litográfico tri-dimensional para aplicação em microóptica integrada (2010)
Catelli, Ricardo Tardelli; Seabra, Antonio Carlos (Orientador)
Unidade: EP
Subjects: MICROELETRÔNICA, ÓPTICA ELETRÔNICA
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ABNT
CATELLI, Ricardo Tardelli. Desenvolvimento de processo litográfico tri-dimensional para aplicação em microóptica integrada. 2010. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2010. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102010-112508/. Acesso em: 13 nov. 2024.
APA
Catelli, R. T. (2010). Desenvolvimento de processo litográfico tri-dimensional para aplicação em microóptica integrada (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102010-112508/
NLM
Catelli RT. Desenvolvimento de processo litográfico tri-dimensional para aplicação em microóptica integrada [Internet]. 2010 ;[citado 2024 nov. 13 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102010-112508/
Vancouver
Catelli RT. Desenvolvimento de processo litográfico tri-dimensional para aplicação em microóptica integrada [Internet]. 2010 ;[citado 2024 nov. 13 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-21102010-112508/
Trabalho de evento-anais periodico
Design of continuous full complex modulation proximity printing masks using a quadratic phase distribution (2004)
Gonçalves Neto, Luiz; Cirino, Giuseppe Antonio; Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard; Seabra, Antonio Carlos
Source: Proceedings of SPIE. Conference titles: Micromachining Technology for Micro-Optics and Nano-Optics II. Unidades: EESC, EP
Subjects: ÓPTICA ELETRÔNICA, MICROELETRÔNICA
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ABNT
GONÇALVES NETO, Luiz et al. Design of continuous full complex modulation proximity printing masks using a quadratic phase distribution. Proceedings of SPIE. Bellingham, WA: Escola de Engenharia de São Carlos, Universidade de São Paulo. . Acesso em: 13 nov. 2024. , 2004
APA
Gonçalves Neto, L., Cirino, G. A., Mansano, R. D., Verdonck, P. B., & Seabra, A. C. (2004). Design of continuous full complex modulation proximity printing masks using a quadratic phase distribution. Proceedings of SPIE. Bellingham, WA: Escola de Engenharia de São Carlos, Universidade de São Paulo.
NLM
Gonçalves Neto L, Cirino GA, Mansano RD, Verdonck PB, Seabra AC. Design of continuous full complex modulation proximity printing masks using a quadratic phase distribution. Proceedings of SPIE. 2004 ; 5437 71-78.[citado 2024 nov. 13 ]
Vancouver
Gonçalves Neto L, Cirino GA, Mansano RD, Verdonck PB, Seabra AC. Design of continuous full complex modulation proximity printing masks using a quadratic phase distribution. Proceedings of SPIE. 2004 ; 5437 71-78.[citado 2024 nov. 13 ]
Trabalho de evento-anais periodico
Hybrid phase and amplitude modulation proximity printing mask fabricated on DLC and 'SIO IND. 2' substrates (2003)
Gonçalves Neto, Luiz; Cirino, Giuseppe Antonio; Mansano, Ronaldo Domingues ; Cardona, Patricia Soares Pinto; Verdonck, Patrick Bernard
Source: Proceedings of SPIE. Conference titles: Micromachining Technology for Micro-Optics and Nano-Optics. Unidades: EESC, EP
Subjects: ÓPTICA ELETRÔNICA, MICROELETRÔNICA
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ABNT
GONÇALVES NETO, Luiz et al. Hybrid phase and amplitude modulation proximity printing mask fabricated on DLC and 'SIO IND. 2' substrates. Proceedings of SPIE. Bellingham: Escola de Engenharia de São Carlos, Universidade de São Paulo. . Acesso em: 13 nov. 2024. , 2003
APA
Gonçalves Neto, L., Cirino, G. A., Mansano, R. D., Cardona, P. S. P., & Verdonck, P. B. (2003). Hybrid phase and amplitude modulation proximity printing mask fabricated on DLC and 'SIO IND. 2' substrates. Proceedings of SPIE. Bellingham: Escola de Engenharia de São Carlos, Universidade de São Paulo.
NLM
Gonçalves Neto L, Cirino GA, Mansano RD, Cardona PSP, Verdonck PB. Hybrid phase and amplitude modulation proximity printing mask fabricated on DLC and 'SIO IND. 2' substrates. Proceedings of SPIE. 2003 ; 4984 18-28.[citado 2024 nov. 13 ]
Vancouver
Gonçalves Neto L, Cirino GA, Mansano RD, Cardona PSP, Verdonck PB. Hybrid phase and amplitude modulation proximity printing mask fabricated on DLC and 'SIO IND. 2' substrates. Proceedings of SPIE. 2003 ; 4984 18-28.[citado 2024 nov. 13 ]
Trabalho de evento
Full complex amplitude modulation proximity printing mask fabricated on DLC and 'SI''O IND.2' subtrates (2002)
Gonçalves Neto, Luis; Cirino, Giuseppe Antonio; Mansano, Ronaldo Domingues ; Cardona, Patrícia Soares Pinto; Verdonck, Patrick Bernard
Conference titles: Diffractive Optics and Micro-Optics. Unidades: EESC, EP
Subjects: ÓPTICA ELETRÔNICA, MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
GONÇALVES NETO, Luis et al. Full complex amplitude modulation proximity printing mask fabricated on DLC and 'SI''O IND.2' subtrates. 2002, Anais.. Tucson: Optical Society of America, 2002. . Acesso em: 13 nov. 2024.
APA
Gonçalves Neto, L., Cirino, G. A., Mansano, R. D., Cardona, P. S. P., & Verdonck, P. B. (2002). Full complex amplitude modulation proximity printing mask fabricated on DLC and 'SI''O IND.2' subtrates. In . Tucson: Optical Society of America.
NLM
Gonçalves Neto L, Cirino GA, Mansano RD, Cardona PSP, Verdonck PB. Full complex amplitude modulation proximity printing mask fabricated on DLC and 'SI''O IND.2' subtrates. 2002 ;[citado 2024 nov. 13 ]
Vancouver
Gonçalves Neto L, Cirino GA, Mansano RD, Cardona PSP, Verdonck PB. Full complex amplitude modulation proximity printing mask fabricated on DLC and 'SI''O IND.2' subtrates. 2002 ;[citado 2024 nov. 13 ]

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