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  • Unidade: EP

    Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA

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    • ABNT

      SIMÕES, Eliphas Wagner. Estudo de dispositivos miniaturizados para controle do escoamento de fluidos. 2000. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2000. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-16102024-111452/pt-br.php. Acesso em: 20 fev. 2026.
    • APA

      Simões, E. W. (2000). Estudo de dispositivos miniaturizados para controle do escoamento de fluidos (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-16102024-111452/pt-br.php
    • NLM

      Simões EW. Estudo de dispositivos miniaturizados para controle do escoamento de fluidos [Internet]. 2000 ;[citado 2026 fev. 20 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-16102024-111452/pt-br.php
    • Vancouver

      Simões EW. Estudo de dispositivos miniaturizados para controle do escoamento de fluidos [Internet]. 2000 ;[citado 2026 fev. 20 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-16102024-111452/pt-br.php
  • Source: XIII SBMicro-ICMP'98 : proceedings. Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP

    Subjects: CIRCUITOS INTEGRADOS, SEMICONDUTORES

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    • ABNT

      SIMÕES, Eliphas Wagner et al. Microfluidic amplifiers fabricated in silicon using fluorine based plasma etching processes. 1998, Anais.. Curitiba: S N, 1998. . Acesso em: 20 fev. 2026.
    • APA

      Simões, E. W., Mansano, R. D., Furlan, R., & Verdonck, P. B. (1998). Microfluidic amplifiers fabricated in silicon using fluorine based plasma etching processes. In XIII SBMicro-ICMP'98 : proceedings. Curitiba: S N.
    • NLM

      Simões EW, Mansano RD, Furlan R, Verdonck PB. Microfluidic amplifiers fabricated in silicon using fluorine based plasma etching processes. XIII SBMicro-ICMP'98 : proceedings. 1998 ;[citado 2026 fev. 20 ]
    • Vancouver

      Simões EW, Mansano RD, Furlan R, Verdonck PB. Microfluidic amplifiers fabricated in silicon using fluorine based plasma etching processes. XIII SBMicro-ICMP'98 : proceedings. 1998 ;[citado 2026 fev. 20 ]
  • Unidade: EP

    Subjects: SILÍCIO, COBALTO

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    • ABNT

      SIMOES, Eliphas Wagner. Estudo da formação de disiliceto de cobalto em duas etapas térmicas sobre silício monocristalino altamente dopado. 1995. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1995. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-15082024-090855/pt-br.php. Acesso em: 20 fev. 2026.
    • APA

      Simoes, E. W. (1995). Estudo da formação de disiliceto de cobalto em duas etapas térmicas sobre silício monocristalino altamente dopado (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-15082024-090855/pt-br.php
    • NLM

      Simoes EW. Estudo da formação de disiliceto de cobalto em duas etapas térmicas sobre silício monocristalino altamente dopado [Internet]. 1995 ;[citado 2026 fev. 20 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-15082024-090855/pt-br.php
    • Vancouver

      Simoes EW. Estudo da formação de disiliceto de cobalto em duas etapas térmicas sobre silício monocristalino altamente dopado [Internet]. 1995 ;[citado 2026 fev. 20 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-15082024-090855/pt-br.php

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