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Trabalho de evento-resumo
Use of diamond-like carbon with tungsten (W-DLC) films for orthopedics implants (2006)
Garcia-Amoedo, Luís Henrique; Pinto, Terezinha de Jesus Andreoli ; Zambom, Luís da Silva ; Mousinho, Ana Paula; Mansano, Ronaldo Domingues ; Massi, Marcos; Ruas, Ronaldo
Source: Final Program. Conference titles: Encontro da Sociedade Brasileira de Pesquisas em Materiais. Unidades: FCF, EP
Subjects: TUNGSTÊNIO, CARBONO, BIOMATERIAIS
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ABNT
GARCIA-AMOEDO, Luís Henrique et al. Use of diamond-like carbon with tungsten (W-DLC) films for orthopedics implants. 2006, Anais.. Rio de Janeiro: SBPMat, 2006. . Acesso em: 07 jul. 2024.
APA
Garcia-Amoedo, L. H., Pinto, T. de J. A., Zambom, L. da S., Mousinho, A. P., Mansano, R. D., Massi, M., & Ruas, R. (2006). Use of diamond-like carbon with tungsten (W-DLC) films for orthopedics implants. In Final Program. Rio de Janeiro: SBPMat.
NLM
Garcia-Amoedo LH, Pinto T de JA, Zambom L da S, Mousinho AP, Mansano RD, Massi M, Ruas R. Use of diamond-like carbon with tungsten (W-DLC) films for orthopedics implants. Final Program. 2006 ;[citado 2024 jul. 07 ]
Vancouver
Garcia-Amoedo LH, Pinto T de JA, Zambom L da S, Mousinho AP, Mansano RD, Massi M, Ruas R. Use of diamond-like carbon with tungsten (W-DLC) films for orthopedics implants. Final Program. 2006 ;[citado 2024 jul. 07 ]
Artigo de periodico
Characterization by coulometric reduction of surface chemical components formed on copper in fluorine-containing plasmas (2003)
Vilca Meléndez, Hugo Antonio; Ruas, Ronaldo; Verdonck, Patrick Bernard; Aoki, Idalina Vieira
Source: Electrochemical and Solid State Letters. Unidade: EP
Subjects: COBRE, CORROSÃO ATMOSFÉRICA, CORROSÃO DOS MATERIAIS, ELETROQUÍMICA, INIBIDORES DE CORROSÃO, METAIS (CONSERVAÇÃO), MICROSCOPIA ELETRÔNICA
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ABNT
VILCA MELÉNDEZ, Hugo Antonio et al. Characterization by coulometric reduction of surface chemical components formed on copper in fluorine-containing plasmas. Electrochemical and Solid State Letters, v. 6, n. 12, p. B55-B58, 2003Tradução . . Acesso em: 07 jul. 2024.
APA
Vilca Meléndez, H. A., Ruas, R., Verdonck, P. B., & Aoki, I. V. (2003). Characterization by coulometric reduction of surface chemical components formed on copper in fluorine-containing plasmas. Electrochemical and Solid State Letters, 6( 12), B55-B58.
NLM
Vilca Meléndez HA, Ruas R, Verdonck PB, Aoki IV. Characterization by coulometric reduction of surface chemical components formed on copper in fluorine-containing plasmas. Electrochemical and Solid State Letters. 2003 ; 6( 12): B55-B58.[citado 2024 jul. 07 ]
Vancouver
Vilca Meléndez HA, Ruas R, Verdonck PB, Aoki IV. Characterization by coulometric reduction of surface chemical components formed on copper in fluorine-containing plasmas. Electrochemical and Solid State Letters. 2003 ; 6( 12): B55-B58.[citado 2024 jul. 07 ]
Trabalho de evento-resumo
Fluorine containing plasma etching surface chemical characterization by coulometric reduction (2003)
Vilca-Melendez, Hugo Antonio; Ruas, Ronaldo; Verdonck, Patrick Bernard; Aoki, Idalina Vieira
Source: 54 th ISE Meeting book of abstracts.. Conference titles: Meeting of the International Society of Electrochemistry. Unidade: EP
Subjects: COBRE, CORROSÃO ATMOSFÉRICA, CORROSÃO DOS MATERIAIS, ELETROQUÍMICA, INIBIDORES DE CORROSÃO, METAIS (CONSERVAÇÃO), MICROSCOPIA ELETRÔNICA
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ABNT
VILCA-MELENDEZ, Hugo Antonio et al. Fluorine containing plasma etching surface chemical characterization by coulometric reduction. 2003, Anais.. São Pedro: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo, 2003. . Acesso em: 07 jul. 2024.
APA
Vilca-Melendez, H. A., Ruas, R., Verdonck, P. B., & Aoki, I. V. (2003). Fluorine containing plasma etching surface chemical characterization by coulometric reduction. In 54 th ISE Meeting book of abstracts.. São Pedro: Escola Politécnica, Universidade de São Paulo.
NLM
Vilca-Melendez HA, Ruas R, Verdonck PB, Aoki IV. Fluorine containing plasma etching surface chemical characterization by coulometric reduction. 54 th ISE Meeting book of abstracts. 2003 ;[citado 2024 jul. 07 ]
Vancouver
Vilca-Melendez HA, Ruas R, Verdonck PB, Aoki IV. Fluorine containing plasma etching surface chemical characterization by coulometric reduction. 54 th ISE Meeting book of abstracts. 2003 ;[citado 2024 jul. 07 ]
Trabalho de evento-resumo
Sterilization by oxigen plasma (2003)
Verdonck, Patrick Bernard; Mansano, Ronaldo Domingues ; Ruas, Ronaldo; Zambom, Luís da Silva ; Moreira, Adir José; Pinto, Terezinha de Jesus Andreoli ; Silva, Mônica Valero da
Source: EVC Abstracts. Conference titles: European Vacuum Congress. Unidades: EP, FCF
Assunto: PLASMA (MICROELETRÔNICA)
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ABNT
VERDONCK, Patrick Bernard et al. Sterilization by oxigen plasma. 2003, Anais.. Berlin: Elsevier, 2003. . Acesso em: 07 jul. 2024.
APA
Verdonck, P. B., Mansano, R. D., Ruas, R., Zambom, L. da S., Moreira, A. J., Pinto, T. de J. A., & Silva, M. V. da. (2003). Sterilization by oxigen plasma. In EVC Abstracts. Berlin: Elsevier.
NLM
Verdonck PB, Mansano RD, Ruas R, Zambom L da S, Moreira AJ, Pinto T de JA, Silva MV da. Sterilization by oxigen plasma. EVC Abstracts. 2003 ;[citado 2024 jul. 07 ]
Vancouver
Verdonck PB, Mansano RD, Ruas R, Zambom L da S, Moreira AJ, Pinto T de JA, Silva MV da. Sterilization by oxigen plasma. EVC Abstracts. 2003 ;[citado 2024 jul. 07 ]
Trabalho de evento
Low-cost polymeric microlenses array fabricated by silicon wet-etch micromachining and polymer spin casting (2002)
Arruda, Antonio Carlos Santos de; Cirino, Giuseppe Antonio; Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard; Ruas, Ronaldo; Gonçalves Neto, Luiz
Source: SBMO, 2002: anais. Conference titles: Simpósio Brasileiro de Microondas e Optoeletrônica. Unidades: EP, EESC
Subjects: TECNOLOGIA DE MICRO-ONDAS, ÓPTICA
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ABNT
ARRUDA, Antonio Carlos Santos de et al. Low-cost polymeric microlenses array fabricated by silicon wet-etch micromachining and polymer spin casting. 2002, Anais.. Recife: SBMO/UFPE, 2002. Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/8acbe1d2-db8d-4e47-b616-902ee77d4c0c/PROD_0000479_SYSNO_1264166.pdf. Acesso em: 07 jul. 2024.
APA
Arruda, A. C. S. de, Cirino, G. A., Mansano, R. D., Verdonck, P. B., Ruas, R., & Gonçalves Neto, L. (2002). Low-cost polymeric microlenses array fabricated by silicon wet-etch micromachining and polymer spin casting. In SBMO, 2002: anais. Recife: SBMO/UFPE. Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/8acbe1d2-db8d-4e47-b616-902ee77d4c0c/PROD_0000479_SYSNO_1264166.pdf
NLM
Arruda ACS de, Cirino GA, Mansano RD, Verdonck PB, Ruas R, Gonçalves Neto L. Low-cost polymeric microlenses array fabricated by silicon wet-etch micromachining and polymer spin casting [Internet]. SBMO, 2002: anais. 2002 ;[citado 2024 jul. 07 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/8acbe1d2-db8d-4e47-b616-902ee77d4c0c/PROD_0000479_SYSNO_1264166.pdf
Vancouver
Arruda ACS de, Cirino GA, Mansano RD, Verdonck PB, Ruas R, Gonçalves Neto L. Low-cost polymeric microlenses array fabricated by silicon wet-etch micromachining and polymer spin casting [Internet]. SBMO, 2002: anais. 2002 ;[citado 2024 jul. 07 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/8acbe1d2-db8d-4e47-b616-902ee77d4c0c/PROD_0000479_SYSNO_1264166.pdf
Trabalho de evento
The influence of electrode material on argon plasmas (2001)
Ruas, Ronaldo; Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard; Braithwaite, S. J.
Source: SBMicro 2001: proceedings. Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
RUAS, Ronaldo et al. The influence of electrode material on argon plasmas. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 07 jul. 2024.
APA
Ruas, R., Mansano, R. D., Verdonck, P. B., & Braithwaite, S. J. (2001). The influence of electrode material on argon plasmas. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Ruas R, Mansano RD, Verdonck PB, Braithwaite SJ. The influence of electrode material on argon plasmas. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2024 jul. 07 ]
Vancouver
Ruas R, Mansano RD, Verdonck PB, Braithwaite SJ. The influence of electrode material on argon plasmas. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2024 jul. 07 ]
Trabalho de evento
The effect of electrode materials on etching mechanisms (2001)
Ruas, Ronaldo; Verdonck, Patrick Bernard; Mansano, Ronaldo Domingues ; Braithwaite, Nicholas
Source: Proceedings. Conference titles: International Symposium on Plasma Chemistry. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
RUAS, Ronaldo et al. The effect of electrode materials on etching mechanisms. 2001, Anais.. Orleans: ISPC, 2001. . Acesso em: 07 jul. 2024.
APA
Ruas, R., Verdonck, P. B., Mansano, R. D., & Braithwaite, N. (2001). The effect of electrode materials on etching mechanisms. In Proceedings. Orleans: ISPC.
NLM
Ruas R, Verdonck PB, Mansano RD, Braithwaite N. The effect of electrode materials on etching mechanisms. Proceedings. 2001 ;[citado 2024 jul. 07 ]
Vancouver
Ruas R, Verdonck PB, Mansano RD, Braithwaite N. The effect of electrode materials on etching mechanisms. Proceedings. 2001 ;[citado 2024 jul. 07 ]

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