Subjects: CIRCUITOS INTEGRADOS MOS, DIODOS, FILMES FINOS, RUGOSIDADE SUPERFICIAL
ABNT
REIS, Ronaldo Willian. Obtenção de contatos rasos de mono-siliceto de níquel visando a fabricação de circuitos integrados MOS. 2006. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2006. . Acesso em: 03 out. 2024.APA
Reis, R. W. (2006). Obtenção de contatos rasos de mono-siliceto de níquel visando a fabricação de circuitos integrados MOS (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo.NLM
Reis RW. Obtenção de contatos rasos de mono-siliceto de níquel visando a fabricação de circuitos integrados MOS. 2006 ;[citado 2024 out. 03 ]Vancouver
Reis RW. Obtenção de contatos rasos de mono-siliceto de níquel visando a fabricação de circuitos integrados MOS. 2006 ;[citado 2024 out. 03 ]