Source: Resumo das Comunicacoes. Conference titles: Coloquio da Sociedade Brasileira de Microscopia Eletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
ABNT
YAMAMOTO, R K e MACIEL, H. S. Estudo por microscopia eletronica de varredura do perfil de corrosao de silicio obtido com plasma de cbrf3. 1991, Anais.. São Paulo: Sbme, 1991. . Acesso em: 23 jun. 2024.APA
Yamamoto, R. K., & Maciel, H. S. (1991). Estudo por microscopia eletronica de varredura do perfil de corrosao de silicio obtido com plasma de cbrf3. In Resumo das Comunicacoes. São Paulo: Sbme.NLM
Yamamoto RK, Maciel HS. Estudo por microscopia eletronica de varredura do perfil de corrosao de silicio obtido com plasma de cbrf3. Resumo das Comunicacoes. 1991 ;[citado 2024 jun. 23 ]Vancouver
Yamamoto RK, Maciel HS. Estudo por microscopia eletronica de varredura do perfil de corrosao de silicio obtido com plasma de cbrf3. Resumo das Comunicacoes. 1991 ;[citado 2024 jun. 23 ]