The role of the substrate on the structure of reactive sputtered Co3O4: from polycrystalline to highly oriented films (2023)
- Authors:
- Autor USP: ZANATTA, ANTONIO RICARDO - IFSC
- Unidade: IFSC
- DOI: 10.1016/j.tsf.2023.140040
- Subjects: FILMES FINOS; DIFRAÇÃO POR RAIOS X
- Keywords: Crystal morphology; High resolution X-ray diffraction; Reactive magnetron sputtering; Spinel; Cobalt oxide
- Agências de fomento:
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Thin Solid Films
- ISSN: 0040-6090
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 782, p. 140040-1-140040-7, Oct. 2023
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
AZEVEDO NETO, Nilton Francelosi et al. The role of the substrate on the structure of reactive sputtered Co3O4: from polycrystalline to highly oriented films. Thin Solid Films, v. 782, p. 140040-1-140040-7, 2023Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2023.140040. Acesso em: 11 jan. 2026. -
APA
Azevedo Neto, N. F., Calligaris, G. A., Affonço, L. J., Zanatta, A. R., Soares, M. M., & Silva, J. H. D. da. (2023). The role of the substrate on the structure of reactive sputtered Co3O4: from polycrystalline to highly oriented films. Thin Solid Films, 782, 140040-1-140040-7. doi:10.1016/j.tsf.2023.140040 -
NLM
Azevedo Neto NF, Calligaris GA, Affonço LJ, Zanatta AR, Soares MM, Silva JHD da. The role of the substrate on the structure of reactive sputtered Co3O4: from polycrystalline to highly oriented films [Internet]. Thin Solid Films. 2023 ; 782 140040-1-140040-7.[citado 2026 jan. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2023.140040 -
Vancouver
Azevedo Neto NF, Calligaris GA, Affonço LJ, Zanatta AR, Soares MM, Silva JHD da. The role of the substrate on the structure of reactive sputtered Co3O4: from polycrystalline to highly oriented films [Internet]. Thin Solid Films. 2023 ; 782 140040-1-140040-7.[citado 2026 jan. 11 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.tsf.2023.140040 - Structural investigation of cobalt oxide films grown by reactive DC magnetron sputtering
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Informações sobre o DOI: 10.1016/j.tsf.2023.140040 (Fonte: oaDOI API)
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