Optical properties of Er and Er + Yb doped hydrogenated amorphous silicon films (2006)
- Authors:
- Autor USP: ZANATTA, ANTONIO RICARDO - IFSC
- Unidade: IFSC
- DOI: 10.1088/0953-8984/18/32/018
- Subjects: ÓPTICA; SILICONE; FILMES FINOS; FÍSICA DA MATÉRIA CONDENSADA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Journal of Physics: Condensed Matter
- ISSN: 0953-8984
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 18, n. 32, p. 7709-7716, Aug. 2006
- Este periódico é de acesso aberto
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
-
ABNT
OLIVEIRA, V. I. e FREIRE JUNIOR, Fernando Lázaro e ZANATTA, Antonio Ricardo. Optical properties of Er and Er + Yb doped hydrogenated amorphous silicon films. Journal of Physics: Condensed Matter, v. 18, n. 32, p. 7709-7716, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1088/0953-8984/18/32/018. Acesso em: 07 fev. 2026. -
APA
Oliveira, V. I., Freire Junior, F. L., & Zanatta, A. R. (2006). Optical properties of Er and Er + Yb doped hydrogenated amorphous silicon films. Journal of Physics: Condensed Matter, 18( 32), 7709-7716. doi:10.1088/0953-8984/18/32/018 -
NLM
Oliveira VI, Freire Junior FL, Zanatta AR. Optical properties of Er and Er + Yb doped hydrogenated amorphous silicon films [Internet]. Journal of Physics: Condensed Matter. 2006 ; 18( 32): 7709-7716.[citado 2026 fev. 07 ] Available from: https://doi.org/10.1088/0953-8984/18/32/018 -
Vancouver
Oliveira VI, Freire Junior FL, Zanatta AR. Optical properties of Er and Er + Yb doped hydrogenated amorphous silicon films [Internet]. Journal of Physics: Condensed Matter. 2006 ; 18( 32): 7709-7716.[citado 2026 fev. 07 ] Available from: https://doi.org/10.1088/0953-8984/18/32/018 - Técnicas de espectroscopia óptica 1: espalhamento Raman
- Desenvolvimento de microcavidades ópticas com janelas de transmissão no visível e infravermelho próximo
- Infrared photoluminescence from Er-doped a-GaAsN alloys
- Propriedades estruturais de filmes finos de silicio amorfo hidrogenado tratados termicamente
- Growth, structure and morphology of Mn-containing amorphous silicon films deposited by sputtering
- Estudo da fase 'BETA'-Fe'Si IND.2' em filmes de silício amorfo dopado com ferro
- An alternative experimental approach to produce rare-earth-doped SiOx films
- Influence of the temperature and time of thermal annealing in the optical properties of a-SiN doped with rare-earth ions
- Optical characterization of Fe-doped amorphous SiNx films
- Filmes de silício amorfo dopados com níquel
Informações sobre o DOI: 10.1088/0953-8984/18/32/018 (Fonte: oaDOI API)
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
