Implantação iônica de baixa energia em polímero para desenvolvimento de camadas compósitas nanoestruturadas condutoras litografáveis (2010)
- Authors:
- Autor USP: TEIXEIRA, FERNANDA DE SÁ - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PSI
- Subjects: MATERIAIS NANOESTRUTURADOS; MATERIAIS COMPÓSITOS; PLASMA (MICROELETRÔNICA); PERCOLAÇÃO
- Language: Português
- Abstract: Eletrônica utilizando polímero em substituição ao silício é uma área de pesquisa recente com perspectivas econômicas promissoras. Compósitos de polímeros com partículas metálicas apresentam interessantes propriedades elétricas, magnéticas e ópticas e têm sido produzidos por uma grande variedade de técnicas. Implantação iônica de metais utilizando plasma é um dos métodos utilizados para obtenção desses compósitos condutores. Neste trabalho é realizada implantação de íons de ouro de baixa energia em PMMA utilizando plasma. O PMMA tem grande importância tecnológica sendo largamente utilizado como resiste em litografias por feixe de elétrons, raios-X, íons e deep-UV. Como resultado da implantação iônica de baixa energia em PMMA há formação de uma camada nanométrica de material condutor. Esse novo material, denominado compósito isolante-condutor, permite criar micro e nanodispositivos através de técnicas largamente utilizadas em microeletrônica. Medidas elétricas são realizadas in situ em função da dose de íons metálicos implantada, o que permite um estudo das propriedades de transporte desses novos materiais, que podem ser modeladas pela teoria da percolação. Simulações utilizando o programa TRIDYN permitem obter a profundidade e o perfil da implantação dos íons. São mostradas caracterizações importantes tais como Microscopia Eletrônica de Transmissão, Microscopia de Varredura por Tunelamento, Espalhamento de Raios-X a Baixos Ângulos, Difração de Raios-X e Espectroscopia UV-vis. Essas técnicas permitem visualizar e investigar o caráter nanoestruturado do compósito metal-polímero. Ainda como parte deste projeto, as camadas condutoras formadas no polímero são caracterizadas quanto à manutenção das suas características de elétron resiste.
- Imprenta:
- Data da defesa: 28.06.2010
-
ABNT
TEIXEIRA, Fernanda de Sá. Implantação iônica de baixa energia em polímero para desenvolvimento de camadas compósitas nanoestruturadas condutoras litografáveis. 2010. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2010. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-23082010-103839/. Acesso em: 10 maio 2025. -
APA
Teixeira, F. de S. (2010). Implantação iônica de baixa energia em polímero para desenvolvimento de camadas compósitas nanoestruturadas condutoras litografáveis (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-23082010-103839/ -
NLM
Teixeira F de S. Implantação iônica de baixa energia em polímero para desenvolvimento de camadas compósitas nanoestruturadas condutoras litografáveis [Internet]. 2010 ;[citado 2025 maio 10 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-23082010-103839/ -
Vancouver
Teixeira F de S. Implantação iônica de baixa energia em polímero para desenvolvimento de camadas compósitas nanoestruturadas condutoras litografáveis [Internet]. 2010 ;[citado 2025 maio 10 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-23082010-103839/ - Anisotropia de resistividade elétrica em filmes finos nanoestruturados
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