Characterization of tin and tic films deposited by magnetron sputtering using nanoindentation and atomic force microscopy (2006)
- Authors:
- USP affiliated authors: SOUZA, ROBERTO MARTINS DE - EP ; TSCHIPTSCHIN, ANDRE PAULO - EP ; KUNIOSHI, CLARICE TERUI - EP ; MACIEL, HOMERO SANTIAGO - EP
- Unidade: EP
- Subjects: FILMES FINOS; RESISTÊNCIA DOS MATERIAIS; PROPRIEDADES DOS MATERIAIS
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Publisher: SBPMat
- Publisher place: Rio de Janeiro
- Date published: 2006
- Source:
- Título: Final Program
- Volume/Número/Paginação/Ano: Rio de Janeiro : SBPMat, 2006
- Conference titles: Encontro da Sociedade Brasileira de Pesquisas em Materiais (SBPMat
-
ABNT
RECCO, Abel André Cândido et al. Characterization of tin and tic films deposited by magnetron sputtering using nanoindentation and atomic force microscopy. 2006, Anais.. Rio de Janeiro: SBPMat, 2006. Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/df438757-77b2-458b-a0f7-0382b3952f0e/Souza_RM-2006-characterization%20of%20tin%20and%20tic%20films.pdf. Acesso em: 14 mar. 2026. -
APA
Recco, A. A. C., Kunioshi, C. T., Moré Farías, M. C., Oliveira, I. C., Maciel, H. S., Souza, R. M. de, & Tschiptschin, A. P. (2006). Characterization of tin and tic films deposited by magnetron sputtering using nanoindentation and atomic force microscopy. In Final Program. Rio de Janeiro: SBPMat. Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/df438757-77b2-458b-a0f7-0382b3952f0e/Souza_RM-2006-characterization%20of%20tin%20and%20tic%20films.pdf -
NLM
Recco AAC, Kunioshi CT, Moré Farías MC, Oliveira IC, Maciel HS, Souza RM de, Tschiptschin AP. Characterization of tin and tic films deposited by magnetron sputtering using nanoindentation and atomic force microscopy [Internet]. Final Program. 2006 ;[citado 2026 mar. 14 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/df438757-77b2-458b-a0f7-0382b3952f0e/Souza_RM-2006-characterization%20of%20tin%20and%20tic%20films.pdf -
Vancouver
Recco AAC, Kunioshi CT, Moré Farías MC, Oliveira IC, Maciel HS, Souza RM de, Tschiptschin AP. Characterization of tin and tic films deposited by magnetron sputtering using nanoindentation and atomic force microscopy [Internet]. Final Program. 2006 ;[citado 2026 mar. 14 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/df438757-77b2-458b-a0f7-0382b3952f0e/Souza_RM-2006-characterization%20of%20tin%20and%20tic%20films.pdf - Adhesion of reactive magnetron sputtered TINx and TICy coatings to AISI H13 tool steel
- Influência da razão entre a dureza e o módulo de elasticidade (H/E) na aderência de revestimentos de TiN e TiC depositados sobre aço AISI H13
- Estudo do comportamento de erosão-oxidação de materiais compósitos de 'NI"CR' com WC e 'CR IND.3'C IND.2'
- Obtenção e caracterização de ligas metálicas amorfas'FE-CR-P' eletrodepositadas
- Estudo do comportamento mecânico do conjunto filme cerâmico/substrato metálíco pelo método dos elementos finitos
- Finite element analysis of peak stresses developed during indentation of ceramic coated steels
- Residual stresses in titanium nitride thin films obtained with step variation of substrate bias voltage during deposition
- Structure and properties of low temperature plasma carburized austenitic stainless steels
- Analise comportamental dos coeficientes de atrito e desgaste de sistemas revestidos submetidos a desgaste micro-abrasivo
- Thick CrN/NbN Multilayer Coating Deposited by Cathodic Arc Technique
Download do texto completo
| Tipo | Nome | Link | |
|---|---|---|---|
| Souza_RM-2006-characteriz... |
How to cite
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
