Corrosão de resistes por plasma para aplicação em litografia de multicamadas (1993)
- Authors:
- Autor USP: MANSANO, RONALDO DOMINGUES - EP
- Unidade: EP
- Sigla do Departamento: PMT
- Assunto: CORROSÃO
- Language: Português
- Abstract: Neste trabalho é apresentado o desenvolvimento de um processo de litografia de três camadas, para ser utilizado nos processos de corrosão por plasma dos materiais usados em microeletrônica. Ao mesmo tempo é apresentado um estudo sobre as influências dos parâmetros do plasma nas taxas de corrosão, perfis e uniformidade de corrosão para os resistes utilizados (AZ 1350J e SELEXTILUX P100). É também apresentado um estudo sobre as etapas necessárias para a obtenção das camadas que compõem uma estrutura de três camadas. Os padrões obtidos na litografia de três camadas foram usados para a corrosão por plasma de um filme de 300 nm de espessura de alumínio em plasma de 'CL IND.4' + ‘N IND.2' e de silício do substrato em plasma de 'SF IND.6' + 'O IND.2'. Os perfis obtidos para esses dois materiais foram bastante verticais, apresentando maior resistência ao plasma e mostrando a aplicabilidade desse método litográfico.
- Imprenta:
- Data da defesa: 06.12.1993
-
ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues. Corrosão de resistes por plasma para aplicação em litografia de multicamadas. 1993. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1993. Disponível em: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-14062022-090027/. Acesso em: 14 out. 2024. -
APA
Mansano, R. D. (1993). Corrosão de resistes por plasma para aplicação em litografia de multicamadas (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-14062022-090027/ -
NLM
Mansano RD. Corrosão de resistes por plasma para aplicação em litografia de multicamadas [Internet]. 1993 ;[citado 2024 out. 14 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-14062022-090027/ -
Vancouver
Mansano RD. Corrosão de resistes por plasma para aplicação em litografia de multicamadas [Internet]. 1993 ;[citado 2024 out. 14 ] Available from: https://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3133/tde-14062022-090027/ - Deposition and characterization of indium-tin oxide thin films deposited by RF sputtering
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