An x-ray topography study of the dendritic web silicon growth process (1997)
- Authors:
- Autor USP: MORELHAO, SERGIO LUIZ - IF
- Unidade: IF
- DOI: 10.1016/s0022-0248(96)00809-3
- Assunto: CRISTALOGRAFIA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título do periódico: Journal of Crystal Growth
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 177, n. 1-2, p. 41-51, 1997
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
MORELHÃO, Sérgio Luiz e MAHAJAN, S. An x-ray topography study of the dendritic web silicon growth process. Journal of Crystal Growth, v. 177, n. 1-2, p. 41-51, 1997Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0022-0248(96)00809-3. Acesso em: 14 maio 2024. -
APA
Morelhão, S. L., & Mahajan, S. (1997). An x-ray topography study of the dendritic web silicon growth process. Journal of Crystal Growth, 177( 1-2), 41-51. doi:10.1016/s0022-0248(96)00809-3 -
NLM
Morelhão SL, Mahajan S. An x-ray topography study of the dendritic web silicon growth process [Internet]. Journal of Crystal Growth. 1997 ; 177( 1-2): 41-51.[citado 2024 maio 14 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0022-0248(96)00809-3 -
Vancouver
Morelhão SL, Mahajan S. An x-ray topography study of the dendritic web silicon growth process [Internet]. Journal of Crystal Growth. 1997 ; 177( 1-2): 41-51.[citado 2024 maio 14 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0022-0248(96)00809-3 - High-resolution synchrotron radiation Renninger scan to examine hybrid reflections in InGaP/GaAs(001)
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Informações sobre o DOI: 10.1016/s0022-0248(96)00809-3 (Fonte: oaDOI API)
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