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Trabalho de evento
Carriers mobility extraction methods for triple-gate FinFET (2008)
Santos, Carolina Davanzzo Gomes dos; Martino, João Antonio (orient.)
Fonte: SBMICRO 2008: Anais. Nome do evento: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SANTOS, Carolina Davanzzo Gomes dos. Carriers mobility extraction methods for triple-gate FinFET. 2008, Anais.. Pennington: The Electrochemical Society, 2008. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Santos, C. D. G. dos. (2008). Carriers mobility extraction methods for triple-gate FinFET. In SBMICRO 2008: Anais. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Santos CDG dos. Carriers mobility extraction methods for triple-gate FinFET. SBMICRO 2008: Anais. 2008 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Santos CDG dos. Carriers mobility extraction methods for triple-gate FinFET. SBMICRO 2008: Anais. 2008 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Behavior of graded channel SOI gate-all-around NMOSFET devices at high temperatures (2004)
Santos, Carolina Davanzzo Gomes dos; Pavanello, Marcelo Antonio ; Martino, João Antonio ; Flandre, Denis ; Raskin, Jean-Pierre
Fonte: Microelectronic technology and Devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. Nome do evento: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
SANTOS, Carolina Davanzzo Gomes dos et al. Behavior of graded channel SOI gate-all-around NMOSFET devices at high temperatures. 2004, Anais.. Pennington: The Electrochemical Society, 2004. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Santos, C. D. G. dos, Pavanello, M. A., Martino, J. A., Flandre, D., & Raskin, J. -P. (2004). Behavior of graded channel SOI gate-all-around NMOSFET devices at high temperatures. In Microelectronic technology and Devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. Pennington: The Electrochemical Society.
NLM
Santos CDG dos, Pavanello MA, Martino JA, Flandre D, Raskin J-P. Behavior of graded channel SOI gate-all-around NMOSFET devices at high temperatures. Microelectronic technology and Devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. 2004 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Santos CDG dos, Pavanello MA, Martino JA, Flandre D, Raskin J-P. Behavior of graded channel SOI gate-all-around NMOSFET devices at high temperatures. Microelectronic technology and Devices SBMicro 2004. Proceedings, v. 2004-03. 2004 ;[citado 2025 nov. 15 ]

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