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Trabalho de evento
Monte Carlo simulation of doping by ion implantation into a-SIC:H (2001)
Oliveira, A. R.; Pereyra, Inés ; Páez Carreño, Marcelo Nelson
Fonte: SBMicro 2001: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
OLIVEIRA, A. R. e PEREYRA, Inés e PÁEZ CARREÑO, Marcelo Nelson. Monte Carlo simulation of doping by ion implantation into a-SIC:H. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Oliveira, A. R., Pereyra, I., & Páez Carreño, M. N. (2001). Monte Carlo simulation of doping by ion implantation into a-SIC:H. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Oliveira AR, Pereyra I, Páez Carreño MN. Monte Carlo simulation of doping by ion implantation into a-SIC:H. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Oliveira AR, Pereyra I, Páez Carreño MN. Monte Carlo simulation of doping by ion implantation into a-SIC:H. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Fabrication of self-sustained membranes using PECVD SiOxNy films (2000)
Lopes, Alexandre Tavares; Alayo Chávez, Marco Isaías ; Paez Carreño, Marcelo Nelson ; Pereyra, Inés
Fonte: SBMicro 2000 : proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
LOPES, Alexandre Tavares et al. Fabrication of self-sustained membranes using PECVD SiOxNy films. 2000, Anais.. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP, 2000. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Lopes, A. T., Alayo Chávez, M. I., Paez Carreño, M. N., & Pereyra, I. (2000). Fabrication of self-sustained membranes using PECVD SiOxNy films. In SBMicro 2000 : proceedings. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP.
NLM
Lopes AT, Alayo Chávez MI, Paez Carreño MN, Pereyra I. Fabrication of self-sustained membranes using PECVD SiOxNy films. SBMicro 2000 : proceedings. 2000 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Lopes AT, Alayo Chávez MI, Paez Carreño MN, Pereyra I. Fabrication of self-sustained membranes using PECVD SiOxNy films. SBMicro 2000 : proceedings. 2000 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Study of CF4+H2 plasma surface modification of PMMA for plastic waveguides processing (1998)
Bartoli, Julio Roberto; Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard; Paez Carreño, Marcelo Nelson ; Costa, Ricardo Aurélio da; Castro, Sandra C de; Martins, Oswaldo L. B.; Leone Filho, Raul
Fonte: ICMP 98: proceedings. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
BARTOLI, Julio Roberto et al. Study of CF4+H2 plasma surface modification of PMMA for plastic waveguides processing. 1998, Anais.. São Paulo: Novodisc, 1998. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Bartoli, J. R., Mansano, R. D., Verdonck, P. B., Paez Carreño, M. N., Costa, R. A. da, Castro, S. C. de, et al. (1998). Study of CF4+H2 plasma surface modification of PMMA for plastic waveguides processing. In ICMP 98: proceedings. São Paulo: Novodisc.
NLM
Bartoli JR, Mansano RD, Verdonck PB, Paez Carreño MN, Costa RA da, Castro SC de, Martins OLB, Leone Filho R. Study of CF4+H2 plasma surface modification of PMMA for plastic waveguides processing. ICMP 98: proceedings. 1998 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Bartoli JR, Mansano RD, Verdonck PB, Paez Carreño MN, Costa RA da, Castro SC de, Martins OLB, Leone Filho R. Study of CF4+H2 plasma surface modification of PMMA for plastic waveguides processing. ICMP 98: proceedings. 1998 ;[citado 2025 nov. 15 ]

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