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  • Source: Microelectronics Reliability. Unidade: IF

    Subjects: RADIAÇÃO IONIZANTE, INTERFERÊNCIA ELETROMAGNÉTICA, CIRCUITOS INTEGRADOS

    PrivadoAcesso à fonteDOIHow to cite
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    • ABNT

      GOERL, Roger et al. Combined ionizing radiation & electromagnetic interference test procedure to achieve reliable integrated circuits. Microelectronics Reliability, v. 100–101, p. 113341-7, 2019Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.microrel.2019.06.033. Acesso em: 15 nov. 2025.
    • APA

      Goerl, R., Villa, P., Vargas, F. L., Marcon, C. A., Medina, N. H., Added, N., & Guazzelli, M. A. (2019). Combined ionizing radiation & electromagnetic interference test procedure to achieve reliable integrated circuits. Microelectronics Reliability, 100–101, 113341-7. doi:10.1016/j.microrel.2019.06.033
    • NLM

      Goerl R, Villa P, Vargas FL, Marcon CA, Medina NH, Added N, Guazzelli MA. Combined ionizing radiation & electromagnetic interference test procedure to achieve reliable integrated circuits [Internet]. Microelectronics Reliability. 2019 ; 100–101 113341-7.[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.microrel.2019.06.033
    • Vancouver

      Goerl R, Villa P, Vargas FL, Marcon CA, Medina NH, Added N, Guazzelli MA. Combined ionizing radiation & electromagnetic interference test procedure to achieve reliable integrated circuits [Internet]. Microelectronics Reliability. 2019 ; 100–101 113341-7.[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.microrel.2019.06.033
  • Source: SBMicro 2000 : proceedings. Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidades: EP, IF

    Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS

    How to cite
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    • ABNT

      ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías et al. Control of the refractive index in PECVD SiOxNy films. 2000, Anais.. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP, 2000. . Acesso em: 15 nov. 2025.
    • APA

      Alayo Chávez, M. I., Pereyra, I., Scopel, W. L., & Fantini, M. C. de A. (2000). Control of the refractive index in PECVD SiOxNy films. In SBMicro 2000 : proceedings. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP.
    • NLM

      Alayo Chávez MI, Pereyra I, Scopel WL, Fantini MC de A. Control of the refractive index in PECVD SiOxNy films. SBMicro 2000 : proceedings. 2000 ;[citado 2025 nov. 15 ]
    • Vancouver

      Alayo Chávez MI, Pereyra I, Scopel WL, Fantini MC de A. Control of the refractive index in PECVD SiOxNy films. SBMicro 2000 : proceedings. 2000 ;[citado 2025 nov. 15 ]
  • Source: Boletim Tecnico da Escola Politecnica da Usp. Departamento de Engenharia Eletronica. Unidades: EP, IF

    Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS

    Versão PublicadaHow to cite
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
    • ABNT

      OSORIO, Sergio Paulo Amaral e ZASNICOFF, Luiz Sergio. Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system. Boletim Tecnico da Escola Politecnica da Usp. Departamento de Engenharia Eletronica, n. 03, 1996Tradução . . Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/291bf272-2e59-4e07-b76e-75cb54e64919/BT-PEE-03_96_251022_090726.pdf. Acesso em: 15 nov. 2025.
    • APA

      Osorio, S. P. A., & Zasnicoff, L. S. (1996). Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system. Boletim Tecnico da Escola Politecnica da Usp. Departamento de Engenharia Eletronica, (03). Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/291bf272-2e59-4e07-b76e-75cb54e64919/BT-PEE-03_96_251022_090726.pdf
    • NLM

      Osorio SPA, Zasnicoff LS. Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system [Internet]. Boletim Tecnico da Escola Politecnica da Usp. Departamento de Engenharia Eletronica. 1996 ;(03):[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/291bf272-2e59-4e07-b76e-75cb54e64919/BT-PEE-03_96_251022_090726.pdf
    • Vancouver

      Osorio SPA, Zasnicoff LS. Reactively-sputtered tin formation using a rf magnetron system [Internet]. Boletim Tecnico da Escola Politecnica da Usp. Departamento de Engenharia Eletronica. 1996 ;(03):[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/291bf272-2e59-4e07-b76e-75cb54e64919/BT-PEE-03_96_251022_090726.pdf

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