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Trabalho de evento
The influence of process parameters on the electrical bahavior of silicon oxide thin films deposited by PECVD-TEOS (2001)
Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Morimoto, Nilton Itiro ; Bonnaud, Olivier
Source: SBMicro 2001: proceedings. Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
SILVA, Ana Neilde Rodrigues da e MORIMOTO, Nilton Itiro e BONNAUD, Olivier. The influence of process parameters on the electrical bahavior of silicon oxide thin films deposited by PECVD-TEOS. 2001, Anais.. Brasília: SBMicro, 2001. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Silva, A. N. R. da, Morimoto, N. I., & Bonnaud, O. (2001). The influence of process parameters on the electrical bahavior of silicon oxide thin films deposited by PECVD-TEOS. In SBMicro 2001: proceedings. Brasília: SBMicro.
NLM
Silva ANR da, Morimoto NI, Bonnaud O. The influence of process parameters on the electrical bahavior of silicon oxide thin films deposited by PECVD-TEOS. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Silva ANR da, Morimoto NI, Bonnaud O. The influence of process parameters on the electrical bahavior of silicon oxide thin films deposited by PECVD-TEOS. SBMicro 2001: proceedings. 2001 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Analysis of TEOS+O2 plasma - the influence of energy and gas flow on the deposition process (2000)
Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Silva, Maria Lucia Pereira da; Morimoto, Nilton Itiro ; Bonnaud, Olivier
Source: SBMicro 2000: proceedings. Conference titles: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
SILVA, Ana Neilde Rodrigues da et al. Analysis of TEOS+O2 plasma - the influence of energy and gas flow on the deposition process. 2000, Anais.. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP, 2000. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Silva, A. N. R. da, Silva, M. L. P. da, Morimoto, N. I., & Bonnaud, O. (2000). Analysis of TEOS+O2 plasma - the influence of energy and gas flow on the deposition process. In SBMicro 2000: proceedings. Manaus: SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP.
NLM
Silva ANR da, Silva MLP da, Morimoto NI, Bonnaud O. Analysis of TEOS+O2 plasma - the influence of energy and gas flow on the deposition process. SBMicro 2000: proceedings. 2000 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Silva ANR da, Silva MLP da, Morimoto NI, Bonnaud O. Analysis of TEOS+O2 plasma - the influence of energy and gas flow on the deposition process. SBMicro 2000: proceedings. 2000 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Estudo da reprodutibilidade do sistema PETEOS utilizando a técnica de espectrometria de massas. (em CD-Rom) (1997)
Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Silva, Maria Lucia Pereira da
Source: Proceedings. Conference titles: Conference of the Brazilian Microelectronics Society. Unidade: EP
Subjects: CIRCUITOS INTEGRADOS, SEMICONDUTORES
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ABNT
SILVA, Ana Neilde Rodrigues da e SILVA, Maria Lucia Pereira da. Estudo da reprodutibilidade do sistema PETEOS utilizando a técnica de espectrometria de massas. (em CD-Rom). 1997, Anais.. Itajubá: SBMICRO/EFEI, 1997. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Silva, A. N. R. da, & Silva, M. L. P. da. (1997). Estudo da reprodutibilidade do sistema PETEOS utilizando a técnica de espectrometria de massas. (em CD-Rom). In Proceedings. Itajubá: SBMICRO/EFEI.
NLM
Silva ANR da, Silva MLP da. Estudo da reprodutibilidade do sistema PETEOS utilizando a técnica de espectrometria de massas. (em CD-Rom). Proceedings. 1997 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Silva ANR da, Silva MLP da. Estudo da reprodutibilidade do sistema PETEOS utilizando a técnica de espectrometria de massas. (em CD-Rom). Proceedings. 1997 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
PECVD SiO2 sacrificial layers for fabrication of free-standing polysilicon filaments. (em CD-Rom) (1997)
Simões, Eliphas Wagner; Furlan, Rogério ; Morimoto, Nilton Itiro ; Bonnaud, Olivier; Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Silva, Maria Lucia Pereira da
Source: Proceedings. Conference titles: Conference of the Brazilian Microelectronics Society. Unidade: EP
Subjects: CIRCUITOS INTEGRADOS, SEMICONDUTORES
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ABNT
SIMÕES, Eliphas Wagner et al. PECVD SiO2 sacrificial layers for fabrication of free-standing polysilicon filaments. (em CD-Rom). 1997, Anais.. Itajubá: SBMICRO/EFEI, 1997. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Simões, E. W., Furlan, R., Morimoto, N. I., Bonnaud, O., Silva, A. N. R. da, & Silva, M. L. P. da. (1997). PECVD SiO2 sacrificial layers for fabrication of free-standing polysilicon filaments. (em CD-Rom). In Proceedings. Itajubá: SBMICRO/EFEI.
NLM
Simões EW, Furlan R, Morimoto NI, Bonnaud O, Silva ANR da, Silva MLP da. PECVD SiO2 sacrificial layers for fabrication of free-standing polysilicon filaments. (em CD-Rom). Proceedings. 1997 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Simões EW, Furlan R, Morimoto NI, Bonnaud O, Silva ANR da, Silva MLP da. PECVD SiO2 sacrificial layers for fabrication of free-standing polysilicon filaments. (em CD-Rom). Proceedings. 1997 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Fabrication process of free-standing polysilicon microfilaments using PECVD silicon oxide as a sacrificial layer (1997)
Simões, Eliphas Wagner; Furlan, Rogério ; Morimoto, Nilton Itiro ; Bonnaud, Olivier; Silva, Ana Neilde Rodrigues da
Source: Micromechanics Europe 97 : technical digest. Conference titles: Workshop on Micromachines, Micromechanics & Microsyems. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
SIMÕES, Eliphas Wagner et al. Fabrication process of free-standing polysilicon microfilaments using PECVD silicon oxide as a sacrificial layer. 1997, Anais.. Southampton: University of Southampton, 1997. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Simões, E. W., Furlan, R., Morimoto, N. I., Bonnaud, O., & Silva, A. N. R. da. (1997). Fabrication process of free-standing polysilicon microfilaments using PECVD silicon oxide as a sacrificial layer. In Micromechanics Europe 97 : technical digest. Southampton: University of Southampton.
NLM
Simões EW, Furlan R, Morimoto NI, Bonnaud O, Silva ANR da. Fabrication process of free-standing polysilicon microfilaments using PECVD silicon oxide as a sacrificial layer. Micromechanics Europe 97 : technical digest. 1997 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Simões EW, Furlan R, Morimoto NI, Bonnaud O, Silva ANR da. Fabrication process of free-standing polysilicon microfilaments using PECVD silicon oxide as a sacrificial layer. Micromechanics Europe 97 : technical digest. 1997 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Influência do substrato de silicio policristalino na formação do siliceto de titânio (1994)
Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Furlan, Rogério
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
SILVA, Ana Neilde Rodrigues da e FURLAN, Rogério. Influência do substrato de silicio policristalino na formação do siliceto de titânio. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/UFRJ, 1994. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Silva, A. N. R. da, & Furlan, R. (1994). Influência do substrato de silicio policristalino na formação do siliceto de titânio. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/UFRJ.
NLM
Silva ANR da, Furlan R. Influência do substrato de silicio policristalino na formação do siliceto de titânio. Anais. 1994 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Silva ANR da, Furlan R. Influência do substrato de silicio policristalino na formação do siliceto de titânio. Anais. 1994 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Estudo da cinética de formação do siliceto de titânio (1994)
Laganá, Armando Antonio Maria ; Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Swart, Jacobus Willibrordus
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
LAGANÁ, Armando Antonio Maria e SILVA, Ana Neilde Rodrigues da e SWART, Jacobus Willibrordus. Estudo da cinética de formação do siliceto de titânio. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/UFRJ, 1994. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Laganá, A. A. M., Silva, A. N. R. da, & Swart, J. W. (1994). Estudo da cinética de formação do siliceto de titânio. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/UFRJ.
NLM
Laganá AAM, Silva ANR da, Swart JW. Estudo da cinética de formação do siliceto de titânio. Anais. 1994 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Laganá AAM, Silva ANR da, Swart JW. Estudo da cinética de formação do siliceto de titânio. Anais. 1994 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Trabalho de evento
Formação de siliceto de titânio em ambiente de nitrogênio (1994)
Laganá, Armando Antonio Maria ; Silva, Ana Neilde Rodrigues da; Swart, Jacobus Willibrordus
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
LAGANÁ, Armando Antonio Maria e SILVA, Ana Neilde Rodrigues da e SWART, Jacobus Willibrordus. Formação de siliceto de titânio em ambiente de nitrogênio. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/UFRJ, 1994. . Acesso em: 15 nov. 2025.
APA
Laganá, A. A. M., Silva, A. N. R. da, & Swart, J. W. (1994). Formação de siliceto de titânio em ambiente de nitrogênio. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/UFRJ.
NLM
Laganá AAM, Silva ANR da, Swart JW. Formação de siliceto de titânio em ambiente de nitrogênio. Anais. 1994 ;[citado 2025 nov. 15 ]
Vancouver
Laganá AAM, Silva ANR da, Swart JW. Formação de siliceto de titânio em ambiente de nitrogênio. Anais. 1994 ;[citado 2025 nov. 15 ]

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