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Artigo de periodico
Improvement on organic compound adsorption and/or detection by using metallic thin films deposited onto highly rough silicon substrates (2005)
Carvalho, Alexsander Tressino de; Silva, Maria Lucia Pereira da; Nascimento Filho, Antonio Pereira do; Jesus, Dosil Pereira de; Santos Filho, Sebastião Gomes dos
Source: Sensors and Actuators B - Chemical. Unidades: IQ, EP
Subjects: FILMES FINOS, COMPOSTOS ORGÂNICOS
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ABNT
CARVALHO, Alexsander Tressino de et al. Improvement on organic compound adsorption and/or detection by using metallic thin films deposited onto highly rough silicon substrates. Sensors and Actuators B - Chemical, v. 108, n. 1-2, p. 947-954, 2005Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.snb.2004.11.065. Acesso em: 10 nov. 2024.
APA
Carvalho, A. T. de, Silva, M. L. P. da, Nascimento Filho, A. P. do, Jesus, D. P. de, & Santos Filho, S. G. dos. (2005). Improvement on organic compound adsorption and/or detection by using metallic thin films deposited onto highly rough silicon substrates. Sensors and Actuators B - Chemical, 108( 1-2), 947-954. doi:10.1016/j.snb.2004.11.065
NLM
Carvalho AT de, Silva MLP da, Nascimento Filho AP do, Jesus DP de, Santos Filho SG dos. Improvement on organic compound adsorption and/or detection by using metallic thin films deposited onto highly rough silicon substrates [Internet]. Sensors and Actuators B - Chemical. 2005 ; 108( 1-2): 947-954.[citado 2024 nov. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.snb.2004.11.065
Vancouver
Carvalho AT de, Silva MLP da, Nascimento Filho AP do, Jesus DP de, Santos Filho SG dos. Improvement on organic compound adsorption and/or detection by using metallic thin films deposited onto highly rough silicon substrates [Internet]. Sensors and Actuators B - Chemical. 2005 ; 108( 1-2): 947-954.[citado 2024 nov. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.snb.2004.11.065
Trabalho de evento-resumo
Avaliação do uso de silíco corroído como substrato para espectroscopia Raman intensificada por superfície (2002)
Goldfeder, Mauricio Barbugiani; Carvalho, Alexsander Tressino de; Faria, Dalva Lúcia Araújo de ; Silva, Maria Lucia Pereira da
Source: Resumos. Conference titles: Simpósio Internacional de Iniciação Científica da Universidade de São Paulo. Unidades: IQ, EP
Subjects: FÍSICO-QUÍMICA, ESPECTROSCOPIA RAMAN, SILÍCIO
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ABNT
GOLDFEDER, Mauricio Barbugiani et al. Avaliação do uso de silíco corroído como substrato para espectroscopia Raman intensificada por superfície. 2002, Anais.. São Carlos: Universidade de São Paulo, 2002. . Acesso em: 10 nov. 2024.
APA
Goldfeder, M. B., Carvalho, A. T. de, Faria, D. L. A. de, & Silva, M. L. P. da. (2002). Avaliação do uso de silíco corroído como substrato para espectroscopia Raman intensificada por superfície. In Resumos. São Carlos: Universidade de São Paulo.
NLM
Goldfeder MB, Carvalho AT de, Faria DLA de, Silva MLP da. Avaliação do uso de silíco corroído como substrato para espectroscopia Raman intensificada por superfície. Resumos. 2002 ;[citado 2024 nov. 10 ]
Vancouver
Goldfeder MB, Carvalho AT de, Faria DLA de, Silva MLP da. Avaliação do uso de silíco corroído como substrato para espectroscopia Raman intensificada por superfície. Resumos. 2002 ;[citado 2024 nov. 10 ]
Tese (Doutorado)
Quimica ionica de tetraetilortossilicato, tetrametilortossilicato e trimetilborato em fase gasosa e sua relevancia em microeletronica (1995)
Silva, Maria Lucia Pereira da; Riveros, José Manuel (Orientador)
Unidade: IQ
Subjects: FÍSICO-QUÍMICA, REAÇÕES QUÍMICAS
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ABNT
SILVA, Maria Lucia Pereira da. Quimica ionica de tetraetilortossilicato, tetrametilortossilicato e trimetilborato em fase gasosa e sua relevancia em microeletronica. 1995. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1995. . Acesso em: 10 nov. 2024.
APA
Silva, M. L. P. da. (1995). Quimica ionica de tetraetilortossilicato, tetrametilortossilicato e trimetilborato em fase gasosa e sua relevancia em microeletronica (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Silva MLP da. Quimica ionica de tetraetilortossilicato, tetrametilortossilicato e trimetilborato em fase gasosa e sua relevancia em microeletronica. 1995 ;[citado 2024 nov. 10 ]
Vancouver
Silva MLP da. Quimica ionica de tetraetilortossilicato, tetrametilortossilicato e trimetilborato em fase gasosa e sua relevancia em microeletronica. 1995 ;[citado 2024 nov. 10 ]
Trabalho de evento-resumo
Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd (1992)
Silva, Maria Lucia Pereira da; Shibata, Newton Yoshiyuki; Escote, Adolfo Tsuyama; Matsumura, W T; Oliveira, Elisabeth de; Swart, Jacobus Willibrordus
Source: Resumos. Conference titles: Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia. Unidades: IQ, EP
Assunto: VÁCUO (APLICAÇÕES INDUSTRIAIS)
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ABNT
SILVA, Maria Lucia Pereira da et al. Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd. 1992, Anais.. Campinas: Unicamp, 1992. . Acesso em: 10 nov. 2024.
APA
Silva, M. L. P. da, Shibata, N. Y., Escote, A. T., Matsumura, W. T., Oliveira, E. de, & Swart, J. W. (1992). Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd. In Resumos. Campinas: Unicamp.
NLM
Silva MLP da, Shibata NY, Escote AT, Matsumura WT, Oliveira E de, Swart JW. Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd. Resumos. 1992 ;[citado 2024 nov. 10 ]
Vancouver
Silva MLP da, Shibata NY, Escote AT, Matsumura WT, Oliveira E de, Swart JW. Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd. Resumos. 1992 ;[citado 2024 nov. 10 ]
Trabalho de evento-resumo
Determinacao de boro e fosforo em filmes de 'SI''O IND.2' usando espectrometria de emissao atomica de plasma de argonio induzido (1992)
Silva, Maria Lucia Pereira da; Oliveira, Elisabeth de; Morimoto, Nilton Itiro
Source: Resumos. Conference titles: Congresso Brasileiro de Quimica. Unidades: IQ, EP
Subjects: QUÍMICA ANALÍTICA, QUÍMICA ANALÍTICA INSTRUMENTAL, ESPECTROSCOPIA
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ABNT
SILVA, Maria Lucia Pereira da e OLIVEIRA, Elisabeth de e MORIMOTO, Nilton Itiro. Determinacao de boro e fosforo em filmes de 'SI''O IND.2' usando espectrometria de emissao atomica de plasma de argonio induzido. 1992, Anais.. São Paulo: Associacao Brasileira de Quimica, 1992. . Acesso em: 10 nov. 2024.
APA
Silva, M. L. P. da, Oliveira, E. de, & Morimoto, N. I. (1992). Determinacao de boro e fosforo em filmes de 'SI''O IND.2' usando espectrometria de emissao atomica de plasma de argonio induzido. In Resumos. São Paulo: Associacao Brasileira de Quimica.
NLM
Silva MLP da, Oliveira E de, Morimoto NI. Determinacao de boro e fosforo em filmes de 'SI''O IND.2' usando espectrometria de emissao atomica de plasma de argonio induzido. Resumos. 1992 ;[citado 2024 nov. 10 ]
Vancouver
Silva MLP da, Oliveira E de, Morimoto NI. Determinacao de boro e fosforo em filmes de 'SI''O IND.2' usando espectrometria de emissao atomica de plasma de argonio induzido. Resumos. 1992 ;[citado 2024 nov. 10 ]
Dissertação (Mestrado)
Estudo da corrosao de 'SI''O POT.2'/'SI' em plasma de cf4 por espectrometria de massa e interferometria (1989)
Silva, Maria Lucia Pereira da; Riveros, José Manuel (Orientador)
Unidade: IQ
Assunto: ESPECTROMETRIA DE MASSAS
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ABNT
SILVA, Maria Lucia Pereira da. Estudo da corrosao de 'SI''O POT.2'/'SI' em plasma de cf4 por espectrometria de massa e interferometria. 1989. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 1989. . Acesso em: 10 nov. 2024.
APA
Silva, M. L. P. da. (1989). Estudo da corrosao de 'SI''O POT.2'/'SI' em plasma de cf4 por espectrometria de massa e interferometria (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo.
NLM
Silva MLP da. Estudo da corrosao de 'SI''O POT.2'/'SI' em plasma de cf4 por espectrometria de massa e interferometria. 1989 ;[citado 2024 nov. 10 ]
Vancouver
Silva MLP da. Estudo da corrosao de 'SI''O POT.2'/'SI' em plasma de cf4 por espectrometria de massa e interferometria. 1989 ;[citado 2024 nov. 10 ]

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