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  • Source: Anais. Conference titles: Congresso Brasileiro de Polímeros. Unidade: EP

    Subjects: POLIMERIZAÇÃO, PLASMA, ÉTER

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    • ABNT

      LIMA, Roberto da Rocha et al. Mecanismos de polimerização por plasma para éter etílico: obtenção de filmes orgânicos polares. 2003, Anais.. São Carlos: Associação Brasileiro de Polímeros, 2003. . Acesso em: 10 nov. 2024.
    • APA

      Lima, R. da R., Carvalho, R. A. M., Silva, M. L. P. da, & Demarquette, N. R. (2003). Mecanismos de polimerização por plasma para éter etílico: obtenção de filmes orgânicos polares. In Anais. São Carlos: Associação Brasileiro de Polímeros.
    • NLM

      Lima R da R, Carvalho RAM, Silva MLP da, Demarquette NR. Mecanismos de polimerização por plasma para éter etílico: obtenção de filmes orgânicos polares. Anais. 2003 ;[citado 2024 nov. 10 ]
    • Vancouver

      Lima R da R, Carvalho RAM, Silva MLP da, Demarquette NR. Mecanismos de polimerização por plasma para éter etílico: obtenção de filmes orgânicos polares. Anais. 2003 ;[citado 2024 nov. 10 ]
  • Source: Anais. Conference titles: Congresso Brasileiro de Polímeros. Unidade: EP

    Subjects: POLÍMEROS (MATERIAIS), PLASMA

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    • ABNT

      NASCIMENTO FILHO, Antonio Pereira do et al. Variação nos mecanismos de reação pela mudança na frequencia da fonte para deposição por plasma. 2003, Anais.. São Carlos: Associação Brasileiro de Polímeros, 2003. . Acesso em: 10 nov. 2024.
    • APA

      Nascimento Filho, A. P. do, Hamanaka, C. O., Silva, M. L. P. da, & Demarquette, N. R. (2003). Variação nos mecanismos de reação pela mudança na frequencia da fonte para deposição por plasma. In Anais. São Carlos: Associação Brasileiro de Polímeros.
    • NLM

      Nascimento Filho AP do, Hamanaka CO, Silva MLP da, Demarquette NR. Variação nos mecanismos de reação pela mudança na frequencia da fonte para deposição por plasma. Anais. 2003 ;[citado 2024 nov. 10 ]
    • Vancouver

      Nascimento Filho AP do, Hamanaka CO, Silva MLP da, Demarquette NR. Variação nos mecanismos de reação pela mudança na frequencia da fonte para deposição por plasma. Anais. 2003 ;[citado 2024 nov. 10 ]
  • Source: Anais. Conference titles: Congresso Brasileiro de Polímeros. Unidade: EP

    Subjects: POLÍMEROS (MATERIAIS), PLASMA

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    • ABNT

      CARVALHO, Rodrigo Amorim Motta et al. Use of tetraetoxi-silane polymerized films for surface protection: comparison between wet and dry deposition. 2001, Anais.. Rio de Janeiro: ABPOL, 2001. . Acesso em: 10 nov. 2024.
    • APA

      Carvalho, R. A. M., Carvalho, A. T. de, Silva, M. L. P. da, & Demarquette, N. R. (2001). Use of tetraetoxi-silane polymerized films for surface protection: comparison between wet and dry deposition. In Anais. Rio de Janeiro: ABPOL.
    • NLM

      Carvalho RAM, Carvalho AT de, Silva MLP da, Demarquette NR. Use of tetraetoxi-silane polymerized films for surface protection: comparison between wet and dry deposition. Anais. 2001 ;[citado 2024 nov. 10 ]
    • Vancouver

      Carvalho RAM, Carvalho AT de, Silva MLP da, Demarquette NR. Use of tetraetoxi-silane polymerized films for surface protection: comparison between wet and dry deposition. Anais. 2001 ;[citado 2024 nov. 10 ]
  • Source: Anais. Conference titles: Congresso Brasileiro de Cerâmica. Unidade: EP

    Assunto: MATERIAIS CERÂMICOS

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    • ABNT

      PEREIRA, Gilberto José et al. Modificação superficial da alumina utilizando tetraetilortossilicato em plasma. 2001, Anais.. São Paulo: Associação Brasileira de Cerâmica, 2001. . Acesso em: 10 nov. 2024.
    • APA

      Pereira, G. J., Gouvêa, D., Silva, M. L. P. da, & Tan, I. H. (2001). Modificação superficial da alumina utilizando tetraetilortossilicato em plasma. In Anais. São Paulo: Associação Brasileira de Cerâmica.
    • NLM

      Pereira GJ, Gouvêa D, Silva MLP da, Tan IH. Modificação superficial da alumina utilizando tetraetilortossilicato em plasma. Anais. 2001 ;[citado 2024 nov. 10 ]
    • Vancouver

      Pereira GJ, Gouvêa D, Silva MLP da, Tan IH. Modificação superficial da alumina utilizando tetraetilortossilicato em plasma. Anais. 2001 ;[citado 2024 nov. 10 ]
  • Source: Anais. Conference titles: Congresso Brasileiro de Polímeros. Unidade: EP

    Subjects: POLÍMEROS (MATERIAIS), PLASMA

    PrivadoHow to cite
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    • ABNT

      NASCIMENTO FILHO, Antonio Pereira do e SILVA, Maria Lucia Pereira da e DEMARQUETTE, Nicole Raymonde. Polymer production by plasma polymerization of oxygenated organic compounds. 2001, Anais.. Rio de Janeiro: ABPOL, 2001. Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/a5587e3c-04c8-469e-b3d5-593aabd1b2bf/DEMARQUETTE-2001-Polymer_production_by_plasma_polymerization_of_oxygenated_organic_compounds_ok.PDF. Acesso em: 10 nov. 2024.
    • APA

      Nascimento Filho, A. P. do, Silva, M. L. P. da, & Demarquette, N. R. (2001). Polymer production by plasma polymerization of oxygenated organic compounds. In Anais. Rio de Janeiro: ABPOL. Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/a5587e3c-04c8-469e-b3d5-593aabd1b2bf/DEMARQUETTE-2001-Polymer_production_by_plasma_polymerization_of_oxygenated_organic_compounds_ok.PDF
    • NLM

      Nascimento Filho AP do, Silva MLP da, Demarquette NR. Polymer production by plasma polymerization of oxygenated organic compounds [Internet]. Anais. 2001 ;[citado 2024 nov. 10 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/a5587e3c-04c8-469e-b3d5-593aabd1b2bf/DEMARQUETTE-2001-Polymer_production_by_plasma_polymerization_of_oxygenated_organic_compounds_ok.PDF
    • Vancouver

      Nascimento Filho AP do, Silva MLP da, Demarquette NR. Polymer production by plasma polymerization of oxygenated organic compounds [Internet]. Anais. 2001 ;[citado 2024 nov. 10 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/a5587e3c-04c8-469e-b3d5-593aabd1b2bf/DEMARQUETTE-2001-Polymer_production_by_plasma_polymerization_of_oxygenated_organic_compounds_ok.PDF
  • Source: Anais. Conference titles: Congresso Brasileiro de Polímeros. Unidade: EP

    Subjects: POLÍMEROS (MATERIAIS), PLASMA

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    • ABNT

      CARVALHO, Alexsander Tressino de et al. Hexamethyldisilazane plasma polymerized films: production and use for surface protection. 2001, Anais.. Rio de Janeiro: ABPOL, 2001. Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/e7882bcf-c7f1-4e58-a8a3-01158131f95c/DEMARQUETTE-2001-Hexamethyldisilazane_plasma_polymerized_films_ok.PDF. Acesso em: 10 nov. 2024.
    • APA

      Carvalho, A. T. de, Carvalho, R. A. M., Silva, M. L. P. da, & Demarquette, N. R. (2001). Hexamethyldisilazane plasma polymerized films: production and use for surface protection. In Anais. Rio de Janeiro: ABPOL. Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/e7882bcf-c7f1-4e58-a8a3-01158131f95c/DEMARQUETTE-2001-Hexamethyldisilazane_plasma_polymerized_films_ok.PDF
    • NLM

      Carvalho AT de, Carvalho RAM, Silva MLP da, Demarquette NR. Hexamethyldisilazane plasma polymerized films: production and use for surface protection [Internet]. Anais. 2001 ;[citado 2024 nov. 10 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/e7882bcf-c7f1-4e58-a8a3-01158131f95c/DEMARQUETTE-2001-Hexamethyldisilazane_plasma_polymerized_films_ok.PDF
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      Carvalho AT de, Carvalho RAM, Silva MLP da, Demarquette NR. Hexamethyldisilazane plasma polymerized films: production and use for surface protection [Internet]. Anais. 2001 ;[citado 2024 nov. 10 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/e7882bcf-c7f1-4e58-a8a3-01158131f95c/DEMARQUETTE-2001-Hexamethyldisilazane_plasma_polymerized_films_ok.PDF
  • Source: Anais. Conference titles: Congresso Brasileiro de Polímeros. Unidade: EP

    Assunto: POLÍMEROS (MATERIAIS)

    PrivadoHow to cite
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    • ABNT

      CALVÃO, Patrícia Schmid et al. Desenvolvimento de um procedimento para produção de filme de óxido de silício por PECVD a ser utilizado como protetor de polímeros. 2001, Anais.. Rio de Janeiro: ABPOL, 2001. Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/2b492095-e249-4213-b39b-a94e6104392a/DEMARQUETTE-2001-Desenvolvimento_de_um_procedimento_para_produ%C3%A7%C3%A3o_de_filme_de_%C3%B3xido_ok.PDF. Acesso em: 10 nov. 2024.
    • APA

      Calvão, P. S., Demarquette, N. R., Silva, M. L. P. da, & Tan, I. H. (2001). Desenvolvimento de um procedimento para produção de filme de óxido de silício por PECVD a ser utilizado como protetor de polímeros. In Anais. Rio de Janeiro: ABPOL. Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/2b492095-e249-4213-b39b-a94e6104392a/DEMARQUETTE-2001-Desenvolvimento_de_um_procedimento_para_produ%C3%A7%C3%A3o_de_filme_de_%C3%B3xido_ok.PDF
    • NLM

      Calvão PS, Demarquette NR, Silva MLP da, Tan IH. Desenvolvimento de um procedimento para produção de filme de óxido de silício por PECVD a ser utilizado como protetor de polímeros [Internet]. Anais. 2001 ;[citado 2024 nov. 10 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/2b492095-e249-4213-b39b-a94e6104392a/DEMARQUETTE-2001-Desenvolvimento_de_um_procedimento_para_produ%C3%A7%C3%A3o_de_filme_de_%C3%B3xido_ok.PDF
    • Vancouver

      Calvão PS, Demarquette NR, Silva MLP da, Tan IH. Desenvolvimento de um procedimento para produção de filme de óxido de silício por PECVD a ser utilizado como protetor de polímeros [Internet]. Anais. 2001 ;[citado 2024 nov. 10 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/2b492095-e249-4213-b39b-a94e6104392a/DEMARQUETTE-2001-Desenvolvimento_de_um_procedimento_para_produ%C3%A7%C3%A3o_de_filme_de_%C3%B3xido_ok.PDF
  • Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP

    Assunto: SEMICONDUTORES

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    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
    • ABNT

      MORIMOTO, Nilton Itiro et al. Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 10 nov. 2024.
    • APA

      Morimoto, N. I., Cardoso, A. R., Silva, M. L. P. da, Shibata, N. Y., Escote, A. T., Matsumura, W. T., & Swart, J. W. (1992). Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
    • NLM

      Morimoto NI, Cardoso AR, Silva MLP da, Shibata NY, Escote AT, Matsumura WT, Swart JW. Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 10 ]
    • Vancouver

      Morimoto NI, Cardoso AR, Silva MLP da, Shibata NY, Escote AT, Matsumura WT, Swart JW. Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 10 ]
  • Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP

    Assunto: MATERIAIS

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    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
    • ABNT

      SILVA, Maria Lucia Pereira da. Corrosao de 'SI''O IND.2' por plasma de c'F IND.4': estudo espectroscopico. 1990, Anais.. Campinas: Sbmicro/Spie, 1990. . Acesso em: 10 nov. 2024.
    • APA

      Silva, M. L. P. da. (1990). Corrosao de 'SI''O IND.2' por plasma de c'F IND.4': estudo espectroscopico. In Anais. Campinas: Sbmicro/Spie.
    • NLM

      Silva MLP da. Corrosao de 'SI''O IND.2' por plasma de c'F IND.4': estudo espectroscopico. Anais. 1990 ;[citado 2024 nov. 10 ]
    • Vancouver

      Silva MLP da. Corrosao de 'SI''O IND.2' por plasma de c'F IND.4': estudo espectroscopico. Anais. 1990 ;[citado 2024 nov. 10 ]

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