Desenvolvimento de um procedimento para produção de filme de óxido de silício por PECVD a ser utilizado como protetor de polímeros

Desenvolvimento de um procedimento para produção de filme de óxido de silício por PECVD a ser utilizado como protetor de polímeros (2001)

Authors:
USP affiliated authors: DEMARQUETTE, NICOLE RAYMONDE - EP ; SILVA, MARIA LUCIA PEREIRA DA - EP
Unidade: EP
Assunto: POLÍMEROS (MATERIAIS)
Language: Português
Imprenta:
- Publisher: ABPOL
- Publisher place: Rio de Janeiro
- Date published: 2001
Source:
- Título do periódico: Anais
Conference titles: Congresso Brasileiro de Polímeros

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ABNT

CALVÃO, Patrícia Schmid; DEMARQUETTE, Nicole Raymonde; SILVA, Maria Lucia Pereira da; TAN, Ing Hwie. Desenvolvimento de um procedimento para produção de filme de óxido de silício por PECVD a ser utilizado como protetor de polímeros. Anais.. Rio de Janeiro: ABPOL, 2001.
APA

Calvão, P. S., Demarquette, N. R., Silva, M. L. P. da, & Tan, I. H. (2001). Desenvolvimento de um procedimento para produção de filme de óxido de silício por PECVD a ser utilizado como protetor de polímeros. In Anais. Rio de Janeiro: ABPOL.
NLM

Calvão PS, Demarquette NR, Silva MLP da, Tan IH. Desenvolvimento de um procedimento para produção de filme de óxido de silício por PECVD a ser utilizado como protetor de polímeros. Anais. 2001 ;
Vancouver

Calvão PS, Demarquette NR, Silva MLP da, Tan IH. Desenvolvimento de um procedimento para produção de filme de óxido de silício por PECVD a ser utilizado como protetor de polímeros. Anais. 2001 ;