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  • Unidade: EP

    Subjects: FILMES FINOS, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA

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    • ABNT

      DAMIANI, Larissa Rodrigues. Filmes de óxido de zinco e nitreto de zinco depositados por magnetron sputtering com diferentes pressões de argônio, oxigênio e nitrogênio. 2015. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2015. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13072016-142431/. Acesso em: 19 nov. 2024.
    • APA

      Damiani, L. R. (2015). Filmes de óxido de zinco e nitreto de zinco depositados por magnetron sputtering com diferentes pressões de argônio, oxigênio e nitrogênio (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13072016-142431/
    • NLM

      Damiani LR. Filmes de óxido de zinco e nitreto de zinco depositados por magnetron sputtering com diferentes pressões de argônio, oxigênio e nitrogênio [Internet]. 2015 ;[citado 2024 nov. 19 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13072016-142431/
    • Vancouver

      Damiani LR. Filmes de óxido de zinco e nitreto de zinco depositados por magnetron sputtering com diferentes pressões de argônio, oxigênio e nitrogênio [Internet]. 2015 ;[citado 2024 nov. 19 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-13072016-142431/
  • Source: Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010. Unidade: EP

    Assunto: ELETROQUÍMICA

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    • ABNT

      DAMIANI, Larissa Rodrigues e MANSANO, Ronaldo Domingues. Thickness dependence of indium-tin oxide thin films deposited by RF magnetron sputtering. Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010, v. 31, n. 1, p. 117-124, 2010Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1149/1.3474149. Acesso em: 19 nov. 2024.
    • APA

      Damiani, L. R., & Mansano, R. D. (2010). Thickness dependence of indium-tin oxide thin films deposited by RF magnetron sputtering. Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010, 31( 1), 117-124. doi:10.1149/1.3474149
    • NLM

      Damiani LR, Mansano RD. Thickness dependence of indium-tin oxide thin films deposited by RF magnetron sputtering [Internet]. Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010. 2010 ;31( 1): 117-124.[citado 2024 nov. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.3474149
    • Vancouver

      Damiani LR, Mansano RD. Thickness dependence of indium-tin oxide thin films deposited by RF magnetron sputtering [Internet]. Microelectronics Technology and Devices - SBMicro 2010. 2010 ;31( 1): 117-124.[citado 2024 nov. 19 ] Available from: https://doi.org/10.1149/1.3474149
  • Unidade: EP

    Subjects: FILMES FINOS, PROCESSOS DE MICROELETRÔNICA

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    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
    • ABNT

      DAMIANI, Larissa Rodrigues. Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering. 2009. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2009. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/. Acesso em: 19 nov. 2024.
    • APA

      Damiani, L. R. (2009). Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/
    • NLM

      Damiani LR. Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering [Internet]. 2009 ;[citado 2024 nov. 19 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/
    • Vancouver

      Damiani LR. Filmes de óxido de índio dopado com estanho depositados por magnetron sputtering [Internet]. 2009 ;[citado 2024 nov. 19 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-31052010-165402/

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