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Trabalho de evento
Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2 (1994)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues e VERDONCK, Patrick Bernard. Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 23 jul. 2024.
APA
Mansano, R. D., & Verdonck, P. B. (1994). Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Mansano RD, Verdonck PB. Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2. Anais. 1994 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Vancouver
Mansano RD, Verdonck PB. Desenvolvimento de um processo de corrosao de aluminio por plasma de cc14+n2. Anais. 1994 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Trabalho de evento
Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures (1994)
Verdonck, Patrick Bernard; Mansano, Ronaldo Domingues
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
VERDONCK, Patrick Bernard e MANSANO, Ronaldo Domingues. Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 23 jul. 2024.
APA
Verdonck, P. B., & Mansano, R. D. (1994). Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Verdonck PB, Mansano RD. Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures. Anais. 1994 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Vancouver
Verdonck PB, Mansano RD. Contamination caused by reactive ion etching plasmas and subsequent cleaning procedures. Anais. 1994 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Trabalho de evento
Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas (1994)
Verdonck, Patrick Bernard; Swart, Jacobus Willibrordus; Mansano, Ronaldo Domingues ; Ordonez, N
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas
ABNT
VERDONCK, Patrick Bernard et al. Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas. 1994, Anais.. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj, 1994. . Acesso em: 23 jul. 2024.
APA
Verdonck, P. B., Swart, J. W., Mansano, R. D., & Ordonez, N. (1994). Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas. In Anais. Rio de Janeiro: Sbmicro/Ufrj.
NLM
Verdonck PB, Swart JW, Mansano RD, Ordonez N. Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas. Anais. 1994 ;[citado 2024 jul. 23 ]
Vancouver
Verdonck PB, Swart JW, Mansano RD, Ordonez N. Reactive ion etching of 'GA''AS' in cc14-n2 plasmas. Anais. 1994 ;[citado 2024 jul. 23 ]

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