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Artigo de periodico
Surface plasmon resonance spectrometer in the double prism configuration: fast characterization of the thickness and dielectric constant dispersion of thin films (2025)
Rodrigues, Debora Cristina da Silva; Oliveira, Gabriel Ferrari de; Romero, André Luis dos Santos ; Vieira, Nirton Cristi Silva ; Vivas, Marcelo Gonçalves
Fonte: Sensors and Actuators A. Unidade: IFSC
Assuntos: SENSORES QUÍMICOS, FILMES FINOS, DIELÉTRICOS
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ABNT
RODRIGUES, Debora Cristina da Silva et al. Surface plasmon resonance spectrometer in the double prism configuration: fast characterization of the thickness and dielectric constant dispersion of thin films. Sensors and Actuators A, v. 381, n. Ja 2025, p. 116067-1-116067-11 + supplementary material, 2025Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.sna.2024.116067. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Rodrigues, D. C. da S., Oliveira, G. F. de, Romero, A. L. dos S., Vieira, N. C. S., & Vivas, M. G. (2025). Surface plasmon resonance spectrometer in the double prism configuration: fast characterization of the thickness and dielectric constant dispersion of thin films. Sensors and Actuators A, 381( Ja 2025), 116067-1-116067-11 + supplementary material. doi:10.1016/j.sna.2024.116067
NLM
Rodrigues DC da S, Oliveira GF de, Romero AL dos S, Vieira NCS, Vivas MG. Surface plasmon resonance spectrometer in the double prism configuration: fast characterization of the thickness and dielectric constant dispersion of thin films [Internet]. Sensors and Actuators A. 2025 ; 381( Ja 2025): 116067-1-116067-11 + supplementary material.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.sna.2024.116067
Vancouver
Rodrigues DC da S, Oliveira GF de, Romero AL dos S, Vieira NCS, Vivas MG. Surface plasmon resonance spectrometer in the double prism configuration: fast characterization of the thickness and dielectric constant dispersion of thin films [Internet]. Sensors and Actuators A. 2025 ; 381( Ja 2025): 116067-1-116067-11 + supplementary material.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.sna.2024.116067
Artigo de periodico
A biomimetic piezoelectric pump: Computational and experimental characterization (2009)
Lima, Cícero Ribeiro de; Vatanabe, Sandro Luis; Choi, Andres; Nakasone, Paulo Henrique; Pires, Rogério Felipe; Silva, Emílio Carlos Nelli
Fonte: Sensors and Actuators A. Unidade: EP
Assuntos: SENSORES ELETROMECÂNICOS, ATUADORES PIEZELÉTRICOS, MATERIAIS BIOMÉDICOS, BIOMATERIAIS
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ABNT
LIMA, Cícero Ribeiro de et al. A biomimetic piezoelectric pump: Computational and experimental characterization. Sensors and Actuators A, v. 152, n. 1, p. 110-118, 2009Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.sna.2009.02.038. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Lima, C. R. de, Vatanabe, S. L., Choi, A., Nakasone, P. H., Pires, R. F., & Silva, E. C. N. (2009). A biomimetic piezoelectric pump: Computational and experimental characterization. Sensors and Actuators A, 152( 1), 110-118. doi:10.1016/j.sna.2009.02.038
NLM
Lima CR de, Vatanabe SL, Choi A, Nakasone PH, Pires RF, Silva ECN. A biomimetic piezoelectric pump: Computational and experimental characterization [Internet]. Sensors and Actuators A. 2009 ; 152( 1): 110-118.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.sna.2009.02.038
Vancouver
Lima CR de, Vatanabe SL, Choi A, Nakasone PH, Pires RF, Silva ECN. A biomimetic piezoelectric pump: Computational and experimental characterization [Internet]. Sensors and Actuators A. 2009 ; 152( 1): 110-118.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.sna.2009.02.038
Artigo de periodico
Anisotropic reactive ion etching in silicon, using a graphite electrode (1998)
Mansano, Ronaldo Domingues ; Verdonck, Patrick Bernard; Maciel, Homero Santiago
Fonte: Sensors and Actuators A. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
MANSANO, Ronaldo Domingues e VERDONCK, Patrick Bernard e MACIEL, Homero Santiago. Anisotropic reactive ion etching in silicon, using a graphite electrode. Sensors and Actuators A, v. 65, n. 2-3, p. 180-186, 1998Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0924-4247(97)01681-6. Acesso em: 08 out. 2025.
APA
Mansano, R. D., Verdonck, P. B., & Maciel, H. S. (1998). Anisotropic reactive ion etching in silicon, using a graphite electrode. Sensors and Actuators A, 65( 2-3), 180-186. doi:10.1016/s0924-4247(97)01681-6
NLM
Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Anisotropic reactive ion etching in silicon, using a graphite electrode [Internet]. Sensors and Actuators A. 1998 ; 65( 2-3): 180-186.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0924-4247(97)01681-6
Vancouver
Mansano RD, Verdonck PB, Maciel HS. Anisotropic reactive ion etching in silicon, using a graphite electrode [Internet]. Sensors and Actuators A. 1998 ; 65( 2-3): 180-186.[citado 2025 out. 08 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0924-4247(97)01681-6

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