Deposicao e caracterizacao de silicio policristalino depositado por lpcvd a partir de silana (1993)
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
ABNT
PEDRINE, Antonio Giacomo e HASENACK, Claus Martin e LOPES, M C V. Deposicao e caracterizacao de silicio policristalino depositado por lpcvd a partir de silana. 1993, Anais.. Campinas: Sbmicro, 1993. . Acesso em: 29 abr. 2026.APA
Pedrine, A. G., Hasenack, C. M., & Lopes, M. C. V. (1993). Deposicao e caracterizacao de silicio policristalino depositado por lpcvd a partir de silana. In Anais. Campinas: Sbmicro.NLM
Pedrine AG, Hasenack CM, Lopes MCV. Deposicao e caracterizacao de silicio policristalino depositado por lpcvd a partir de silana. Anais. 1993 ;[citado 2026 abr. 29 ]Vancouver
Pedrine AG, Hasenack CM, Lopes MCV. Deposicao e caracterizacao de silicio policristalino depositado por lpcvd a partir de silana. Anais. 1993 ;[citado 2026 abr. 29 ]