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Trabalho de evento-resumo
Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd (1992)
Silva, Maria Lucia Pereira da; Shibata, Newton Yoshiyuki; Escote, Adolfo Tsuyama; Matsumura, W T; Oliveira, Elisabeth de; Swart, Jacobus Willibrordus
Source: Resumos. Conference titles: Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia. Unidades: IQ, EP
Assunto: VÁCUO (APLICAÇÕES INDUSTRIAIS)
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ABNT
SILVA, Maria Lucia Pereira da et al. Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd. 1992, Anais.. Campinas: Unicamp, 1992. . Acesso em: 18 nov. 2024.
APA
Silva, M. L. P. da, Shibata, N. Y., Escote, A. T., Matsumura, W. T., Oliveira, E. de, & Swart, J. W. (1992). Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd. In Resumos. Campinas: Unicamp.
NLM
Silva MLP da, Shibata NY, Escote AT, Matsumura WT, Oliveira E de, Swart JW. Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd. Resumos. 1992 ;[citado 2024 nov. 18 ]
Vancouver
Silva MLP da, Shibata NY, Escote AT, Matsumura WT, Oliveira E de, Swart JW. Desenvolvimento de um sistema integrado multicamara para a deposicao de 'SI''O IND.2' dopados ou nao com boro e / ou fosforo por r / pecvd. Resumos. 1992 ;[citado 2024 nov. 18 ]
Trabalho de evento
Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio (1992)
Morimoto, Nilton Itiro ; Cardoso, A R; Silva, Maria Lucia Pereira da; Shibata, Newton Yoshiyuki; Escote, Adolfo Tsuyama; Matsumura, W T; Swart, Jacobus Willibrordus
Source: Anais. Conference titles: Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
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ABNT
MORIMOTO, Nilton Itiro et al. Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. 1992, Anais.. São Paulo: Sbmicro/Epusp, 1992. . Acesso em: 18 nov. 2024.
APA
Morimoto, N. I., Cardoso, A. R., Silva, M. L. P. da, Shibata, N. Y., Escote, A. T., Matsumura, W. T., & Swart, J. W. (1992). Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. In Anais. São Paulo: Sbmicro/Epusp.
NLM
Morimoto NI, Cardoso AR, Silva MLP da, Shibata NY, Escote AT, Matsumura WT, Swart JW. Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 18 ]
Vancouver
Morimoto NI, Cardoso AR, Silva MLP da, Shibata NY, Escote AT, Matsumura WT, Swart JW. Construcao e desenvolvimento de um equipamento integrado para a deposicao de oxidos de silicio. Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 18 ]
Trabalho de evento
Estudos de filmes finos de oxido de silicio depositados por r / pecvd (1992)
Silva, Maria Lucia Pereira da; Cardoso, A R; Morimoto, Nilton Itiro ; Escote, Adolfo Tsuyama; Shibata, Newton Yoshiyuki; Matsumura, W T
Source: Cbecimat: Anais. Conference titles: Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciencia dos Materiais. Unidade: EP
Assunto: SEMICONDUTORES
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ABNT
SILVA, Maria Lucia Pereira da et al. Estudos de filmes finos de oxido de silicio depositados por r / pecvd. 1992, Anais.. Campinas: Unicamp, 1992. . Acesso em: 18 nov. 2024.
APA
Silva, M. L. P. da, Cardoso, A. R., Morimoto, N. I., Escote, A. T., Shibata, N. Y., & Matsumura, W. T. (1992). Estudos de filmes finos de oxido de silicio depositados por r / pecvd. In Cbecimat: Anais. Campinas: Unicamp.
NLM
Silva MLP da, Cardoso AR, Morimoto NI, Escote AT, Shibata NY, Matsumura WT. Estudos de filmes finos de oxido de silicio depositados por r / pecvd. Cbecimat: Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 18 ]
Vancouver
Silva MLP da, Cardoso AR, Morimoto NI, Escote AT, Shibata NY, Matsumura WT. Estudos de filmes finos de oxido de silicio depositados por r / pecvd. Cbecimat: Anais. 1992 ;[citado 2024 nov. 18 ]

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