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Artigo de periodico
Correlating the structural, optical and surface electronic properties of sputtered Co3O4 films (2026)
Azevedo Neto, Nilton Francelosi ; Albano, Luiz Gustavo Simão ; Ribeiro, Allan Victor ; Dalan, Filipe Caldatto ; Pereira, André Luis Jesus ; Zanatta, Antonio Ricardo ; Silva, José Humberto Dias da
Source: Physica Scripta. Unidade: IFSC
Subjects: ELETROQUÍMICA, FILMES FINOS, ESPECTROSCOPIA
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ABNT
AZEVEDO NETO, Nilton Francelosi et al. Correlating the structural, optical and surface electronic properties of sputtered Co3O4 films. Physica Scripta, v. 101, n. 12, p. 125907-1-125907-12 + supplementary materials, 2026Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1088/1402-4896/ae5156. Acesso em: 13 abr. 2026.
APA
Azevedo Neto, N. F., Albano, L. G. S., Ribeiro, A. V., Dalan, F. C., Pereira, A. L. J., Zanatta, A. R., & Silva, J. H. D. da. (2026). Correlating the structural, optical and surface electronic properties of sputtered Co3O4 films. Physica Scripta, 101( 12), 125907-1-125907-12 + supplementary materials. doi:10.1088/1402-4896/ae5156
NLM
Azevedo Neto NF, Albano LGS, Ribeiro AV, Dalan FC, Pereira ALJ, Zanatta AR, Silva JHD da. Correlating the structural, optical and surface electronic properties of sputtered Co3O4 films [Internet]. Physica Scripta. 2026 ; 101( 12): 125907-1-125907-12 + supplementary materials.[citado 2026 abr. 13 ] Available from: https://doi.org/10.1088/1402-4896/ae5156
Vancouver
Azevedo Neto NF, Albano LGS, Ribeiro AV, Dalan FC, Pereira ALJ, Zanatta AR, Silva JHD da. Correlating the structural, optical and surface electronic properties of sputtered Co3O4 films [Internet]. Physica Scripta. 2026 ; 101( 12): 125907-1-125907-12 + supplementary materials.[citado 2026 abr. 13 ] Available from: https://doi.org/10.1088/1402-4896/ae5156
Artigo de periodico
Role of nitrogen partial pressure, deposition rate and annealing on stability of beta-W phase (2023)
Singh, Hardepinder; Gupta, Mukul; Gupta, Pooja; Penacchio, Rafaela ; Morelhão, Sérgio Luiz ; Kumar, Hardeep
Source: Applied Physics A: Materials Science and Processing (Applied Physics A). Unidade: IF
Subjects: FILMES FINOS, TUNGSTÊNIO, DIFRAÇÃO POR RAIOS X
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ABNT
SINGH, Hardepinder et al. Role of nitrogen partial pressure, deposition rate and annealing on stability of beta-W phase. Applied Physics A: Materials Science and Processing (Applied Physics A), v. 129, n. 5, 2023Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1007/s00339-023-06552-x. Acesso em: 13 abr. 2026.
APA
Singh, H., Gupta, M., Gupta, P., Penacchio, R., Morelhão, S. L., & Kumar, H. (2023). Role of nitrogen partial pressure, deposition rate and annealing on stability of beta-W phase. Applied Physics A: Materials Science and Processing (Applied Physics A), 129( 5). doi:10.1007/s00339-023-06552-x
NLM
Singh H, Gupta M, Gupta P, Penacchio R, Morelhão SL, Kumar H. Role of nitrogen partial pressure, deposition rate and annealing on stability of beta-W phase [Internet]. Applied Physics A: Materials Science and Processing (Applied Physics A). 2023 ; 129( 5):[citado 2026 abr. 13 ] Available from: https://doi.org/10.1007/s00339-023-06552-x
Vancouver
Singh H, Gupta M, Gupta P, Penacchio R, Morelhão SL, Kumar H. Role of nitrogen partial pressure, deposition rate and annealing on stability of beta-W phase [Internet]. Applied Physics A: Materials Science and Processing (Applied Physics A). 2023 ; 129( 5):[citado 2026 abr. 13 ] Available from: https://doi.org/10.1007/s00339-023-06552-x
Artigo de periodico
Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes (2006)
Souza, E. A.; Santos, A. O. dos; Cardoso, L. P.; Tabacniks, Manfredo Harri ; Landers, R.; Gorenstein, A.
Source: Journal of Power Sources. Unidade: IF
Subjects: FÍSICA NUCLEAR, FILMES FINOS, COBRE, VANÁDIO, ELETRODO, LÍTIO
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ABNT
SOUZA, E. A. et al. Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes. Journal of Power Sources, v. 162, n. 1, p. 679-684, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2006.07.011. Acesso em: 13 abr. 2026.
APA
Souza, E. A., Santos, A. O. dos, Cardoso, L. P., Tabacniks, M. H., Landers, R., & Gorenstein, A. (2006). Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes. Journal of Power Sources, 162( 1), 679-684. doi:10.1016/j.jpowsour.2006.07.011
NLM
Souza EA, Santos AO dos, Cardoso LP, Tabacniks MH, Landers R, Gorenstein A. Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes [Internet]. Journal of Power Sources. 2006 ; 162( 1): 679-684.[citado 2026 abr. 13 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2006.07.011
Vancouver
Souza EA, Santos AO dos, Cardoso LP, Tabacniks MH, Landers R, Gorenstein A. Copper–vanadium mixed oxide thin film electrodes [Internet]. Journal of Power Sources. 2006 ; 162( 1): 679-684.[citado 2026 abr. 13 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2006.07.011
Artigo de periodico
Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries (2006)
Souza, E. A.; Santos, A. O. dos; Cardoso, L. P.; Tabacniks, Manfredo Harri ; Landers, R.; Gorenstein, A.
Source: Journal of Power Sources. Unidade: IF
Subjects: FÍSICA NUCLEAR, FILMES FINOS, COBRE, ÍONS, LÍTIO, ELETRODO
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ABNT
SOUZA, E. A. et al. Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries. Journal of Power Sources, v. 155, n. 2, p. 358-36321 de abril de 2006, 2006Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2005.04.014. Acesso em: 13 abr. 2026.
APA
Souza, E. A., Santos, A. O. dos, Cardoso, L. P., Tabacniks, M. H., Landers, R., & Gorenstein, A. (2006). Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries. Journal of Power Sources, 155( 2), 358-36321 de abril de 2006. doi:10.1016/j.jpowsour.2005.04.014
NLM
Souza EA, Santos AO dos, Cardoso LP, Tabacniks MH, Landers R, Gorenstein A. Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries [Internet]. Journal of Power Sources. 2006 ; 155( 2): 358-36321 de abril de 2006.[citado 2026 abr. 13 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2005.04.014
Vancouver
Souza EA, Santos AO dos, Cardoso LP, Tabacniks MH, Landers R, Gorenstein A. Evaluation of copper oxide thin films as electrodes for microbatteries [Internet]. Journal of Power Sources. 2006 ; 155( 2): 358-36321 de abril de 2006.[citado 2026 abr. 13 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jpowsour.2005.04.014

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