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  • Source: Journal of Alloys and Compounds. Unidades: IF, IAG

    Assunto: RAIOS X

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    • ABNT

      FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu et al. Synthesis and structure of cage-like mesoporous silica using different precursors. Journal of Alloys and Compounds, v. 509, n. ju2011, p. S257-S360, 2011Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2011.01.093. Acesso em: 10 jun. 2024.
    • APA

      Fantini, M. C. de A., Kanagussuko, C. F., Zilioti, G. J. M., & Martins, T. S. (2011). Synthesis and structure of cage-like mesoporous silica using different precursors. Journal of Alloys and Compounds, 509( ju2011), S257-S360. doi:10.1016/j.jallcom.2011.01.093
    • NLM

      Fantini MC de A, Kanagussuko CF, Zilioti GJM, Martins TS. Synthesis and structure of cage-like mesoporous silica using different precursors [Internet]. Journal of Alloys and Compounds. 2011 ; 509( ju2011): S257-S360.[citado 2024 jun. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2011.01.093
    • Vancouver

      Fantini MC de A, Kanagussuko CF, Zilioti GJM, Martins TS. Synthesis and structure of cage-like mesoporous silica using different precursors [Internet]. Journal of Alloys and Compounds. 2011 ; 509( ju2011): S257-S360.[citado 2024 jun. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2011.01.093
  • Source: Materials Science and Engineering B-Solid State Materials for Advanced Technology. Unidades: IF, IQ, IQSC

    Subjects: POLÍMEROS (MATERIAIS), DIFRAÇÃO POR RAIOS X

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    • ABNT

      FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu et al. Ordered mesoporous silica: microwave synthesis. Materials Science and Engineering B-Solid State Materials for Advanced Technology, v. 112, n. 1-2, p. 106-110, 2004Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.mseb.2004.05.013. Acesso em: 10 jun. 2024.
    • APA

      Fantini, M. C. de A., Matos, J. do R., Silva, L. C. C. da, Mercuri, L. P., Chierice, G. O., Celer, E. B., & Jaroniec, M. (2004). Ordered mesoporous silica: microwave synthesis. Materials Science and Engineering B-Solid State Materials for Advanced Technology, 112( 1-2), 106-110. doi:10.1016/j.mseb.2004.05.013
    • NLM

      Fantini MC de A, Matos J do R, Silva LCC da, Mercuri LP, Chierice GO, Celer EB, Jaroniec M. Ordered mesoporous silica: microwave synthesis [Internet]. Materials Science and Engineering B-Solid State Materials for Advanced Technology. 2004 ; 112( 1-2): 106-110.[citado 2024 jun. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.mseb.2004.05.013
    • Vancouver

      Fantini MC de A, Matos J do R, Silva LCC da, Mercuri LP, Chierice GO, Celer EB, Jaroniec M. Ordered mesoporous silica: microwave synthesis [Internet]. Materials Science and Engineering B-Solid State Materials for Advanced Technology. 2004 ; 112( 1-2): 106-110.[citado 2024 jun. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.mseb.2004.05.013
  • Source: Thin Solids Films. Unidades: IF, EP

    Subjects: FILMES FINOS, FOTOLUMINESCÊNCIA

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    • ABNT

      SCOPEL, Wanderla Luis et al. Structural investigation of Si-rich amorphous silicon oxynitride films. Thin Solids Films, v. 425, n. 1-2, p. 275-281, 2003Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(02)01053-2. Acesso em: 10 jun. 2024.
    • APA

      Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2003). Structural investigation of Si-rich amorphous silicon oxynitride films. Thin Solids Films, 425( 1-2), 275-281. doi:10.1016/s0040-6090(02)01053-2
    • NLM

      Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Structural investigation of Si-rich amorphous silicon oxynitride films [Internet]. Thin Solids Films. 2003 ; 425( 1-2): 275-281.[citado 2024 jun. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(02)01053-2
    • Vancouver

      Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Structural investigation of Si-rich amorphous silicon oxynitride films [Internet]. Thin Solids Films. 2003 ; 425( 1-2): 275-281.[citado 2024 jun. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(02)01053-2
  • Source: Thin Solid Films. Unidades: IF, EP

    Subjects: ESPECTROSCOPIA DE RAIO X, ESPECTROMETRIA, FILMES FINOS

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    • ABNT

      SCOPEL, Wanderla Luis et al. Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films. Thin Solid Films, v. 413, n. 1-2, p. 59-64, 2002Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(02)00346-2. Acesso em: 10 jun. 2024.
    • APA

      Scopel, W. L., Fantini, M. C. de A., Alayo Chávez, M. I., & Pereyra, I. (2002). Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films. Thin Solid Films, 413( 1-2), 59-64. doi:10.1016/s0040-6090(02)00346-2
    • NLM

      Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 413( 1-2): 59-64.[citado 2024 jun. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(02)00346-2
    • Vancouver

      Scopel WL, Fantini MC de A, Alayo Chávez MI, Pereyra I. Local structure and bonds of amorphous silicon oxynitride thin films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 413( 1-2): 59-64.[citado 2024 jun. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0040-6090(02)00346-2
  • Source: Thin Solid Films. Unidades: IF, EP

    Subjects: FÍSICA DE PLASMAS, DIELÉTRICOS

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    • ABNT

      ALAYO CHÁVEZ, Marco Isaías et al. On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) SiOxNy films. Thin Solid Films, v. 402, n. 1-2, p. 154-161, 2002Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/S0040-6090(01)01685-6. Acesso em: 10 jun. 2024.
    • APA

      Alayo Chávez, M. I., Pereyra, I., Scopel, W. L., & Fantini, M. C. de A. (2002). On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) SiOxNy films. Thin Solid Films, 402( 1-2), 154-161. doi:10.1016/S0040-6090(01)01685-6
    • NLM

      Alayo Chávez MI, Pereyra I, Scopel WL, Fantini MC de A. On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) SiOxNy films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 402( 1-2): 154-161.[citado 2024 jun. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/S0040-6090(01)01685-6
    • Vancouver

      Alayo Chávez MI, Pereyra I, Scopel WL, Fantini MC de A. On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) SiOxNy films [Internet]. Thin Solid Films. 2002 ; 402( 1-2): 154-161.[citado 2024 jun. 10 ] Available from: https://doi.org/10.1016/S0040-6090(01)01685-6
  • Source: Journal of Power Sources. Unidade: IF

    Assunto: ENGENHARIA MECÂNICA

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    • ABNT

      URBANO, A et al. Electronic structure of 'Li IND.X''NiO IND.Y' thin films. Journal of Power Sources, v. 97-98, p. 328-331, 2001Tradução . . Disponível em: http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=03787753&issue=v97-98inone&article=328_esoltf&form=pdf&file=file.pdf. Acesso em: 10 jun. 2024.
    • APA

      Urbano, A., Castro, S. C. de, Morais, J., Siervo, A. D., Gorenstein, A., Tabacniks, M. H., & Fantini, M. C. de A. (2001). Electronic structure of 'Li IND.X''NiO IND.Y' thin films. Journal of Power Sources, 97-98, 328-331. Recuperado de http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=03787753&issue=v97-98inone&article=328_esoltf&form=pdf&file=file.pdf
    • NLM

      Urbano A, Castro SC de, Morais J, Siervo AD, Gorenstein A, Tabacniks MH, Fantini MC de A. Electronic structure of 'Li IND.X''NiO IND.Y' thin films [Internet]. Journal of Power Sources. 2001 ; 97-98 328-331.[citado 2024 jun. 10 ] Available from: http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=03787753&issue=v97-98inone&article=328_esoltf&form=pdf&file=file.pdf
    • Vancouver

      Urbano A, Castro SC de, Morais J, Siervo AD, Gorenstein A, Tabacniks MH, Fantini MC de A. Electronic structure of 'Li IND.X''NiO IND.Y' thin films [Internet]. Journal of Power Sources. 2001 ; 97-98 328-331.[citado 2024 jun. 10 ] Available from: http://e5500.fapesp.br/cgi-bin/sciserv.pl?collection=journals&journal=03787753&issue=v97-98inone&article=328_esoltf&form=pdf&file=file.pdf
  • Source: Materials Science Forum. Unidades: IF, EP

    Assunto: SEMICONDUTORES

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    • ABNT

      PRADO, Rogerio Junqueira et al. Thin films of a-'Si IND.1-X''C IND.X':H deposited by PECVD: the r.f. power and 'H IND.2' dilution role. Materials Science Forum, v. 338-342, n. 1, p. 329-332, 2000Tradução . . Acesso em: 10 jun. 2024.
    • APA

      Prado, R. J., Fantini, M. C. de A., Tabacniks, M. H., Pereyra, I., & Flank, A. M. (2000). Thin films of a-'Si IND.1-X''C IND.X':H deposited by PECVD: the r.f. power and 'H IND.2' dilution role. Materials Science Forum, 338-342( 1), 329-332.
    • NLM

      Prado RJ, Fantini MC de A, Tabacniks MH, Pereyra I, Flank AM. Thin films of a-'Si IND.1-X''C IND.X':H deposited by PECVD: the r.f. power and 'H IND.2' dilution role. Materials Science Forum. 2000 ; 338-342( 1): 329-332.[citado 2024 jun. 10 ]
    • Vancouver

      Prado RJ, Fantini MC de A, Tabacniks MH, Pereyra I, Flank AM. Thin films of a-'Si IND.1-X''C IND.X':H deposited by PECVD: the r.f. power and 'H IND.2' dilution role. Materials Science Forum. 2000 ; 338-342( 1): 329-332.[citado 2024 jun. 10 ]
  • Source: Abstracts. Conference titles: International Meeting on Electrochromism. Unidade: IF

    Assunto: FÍSICA

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    • ABNT

      URBANO, A et al. Electrochromism in 'Li IND.X'Ni'O IND.Y' thin films deposited RF sputtering. 2000, Anais.. Uppsala: Instituto de Física, Universidade de São Paulo, 2000. . Acesso em: 10 jun. 2024.
    • APA

      Urbano, A., Ferreira, F. F., Castro, S. C. de, Landers, R., & Fantini, M. C. de A. (2000). Electrochromism in 'Li IND.X'Ni'O IND.Y' thin films deposited RF sputtering. In Abstracts. Uppsala: Instituto de Física, Universidade de São Paulo.
    • NLM

      Urbano A, Ferreira FF, Castro SC de, Landers R, Fantini MC de A. Electrochromism in 'Li IND.X'Ni'O IND.Y' thin films deposited RF sputtering. Abstracts. 2000 ;[citado 2024 jun. 10 ]
    • Vancouver

      Urbano A, Ferreira FF, Castro SC de, Landers R, Fantini MC de A. Electrochromism in 'Li IND.X'Ni'O IND.Y' thin films deposited RF sputtering. Abstracts. 2000 ;[citado 2024 jun. 10 ]
  • Source: Abstracts. Conference titles: International Meeting on Electrochromism. Unidade: IF

    Assunto: FÍSICA

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    • ABNT

      FERREIRA, Fabio Furlan e FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu e GORENSTEIN, A. Electrochromic Au-Ni'O IND.X' thin films. 2000, Anais.. Uppsala: Instituto de Física, Universidade de São Paulo, 2000. . Acesso em: 10 jun. 2024.
    • APA

      Ferreira, F. F., Fantini, M. C. de A., & Gorenstein, A. (2000). Electrochromic Au-Ni'O IND.X' thin films. In Abstracts. Uppsala: Instituto de Física, Universidade de São Paulo.
    • NLM

      Ferreira FF, Fantini MC de A, Gorenstein A. Electrochromic Au-Ni'O IND.X' thin films. Abstracts. 2000 ;[citado 2024 jun. 10 ]
    • Vancouver

      Ferreira FF, Fantini MC de A, Gorenstein A. Electrochromic Au-Ni'O IND.X' thin films. Abstracts. 2000 ;[citado 2024 jun. 10 ]
  • Source: Abstracts. Conference titles: International Meeting on Electrochromism. Unidade: IF

    Assunto: FÍSICA

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    • ABNT

      MARTINI, Milena et al. Electrochromic properties of NiO-based thin films prepared by the sol-gel dip coating. 2000, Anais.. Uppsala: Instituto de Física, Universidade de São Paulo, 2000. . Acesso em: 10 jun. 2024.
    • APA

      Martini, M., Brito, G. E. de S., Fantini, M. C. de A., Craievich, A. F., & Gorenstein, A. (2000). Electrochromic properties of NiO-based thin films prepared by the sol-gel dip coating. In Abstracts. Uppsala: Instituto de Física, Universidade de São Paulo.
    • NLM

      Martini M, Brito GE de S, Fantini MC de A, Craievich AF, Gorenstein A. Electrochromic properties of NiO-based thin films prepared by the sol-gel dip coating. Abstracts. 2000 ;[citado 2024 jun. 10 ]
    • Vancouver

      Martini M, Brito GE de S, Fantini MC de A, Craievich AF, Gorenstein A. Electrochromic properties of NiO-based thin films prepared by the sol-gel dip coating. Abstracts. 2000 ;[citado 2024 jun. 10 ]
  • Source: Abstracts. Conference titles: International Meeting on Electrochromism. Unidade: IF

    Assunto: FÍSICA

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    • ABNT

      FANTINI, Márcia Carvalho de Abreu e FERREIRA, Fabio Furlan e GORENSTEIN, A. Theoretical transmittance of composite Au-Ni'O IND.X' and Au-Co'O IND.X'. 2000, Anais.. Uppsala: Instituto de Física, Universidade de São Paulo, 2000. . Acesso em: 10 jun. 2024.
    • APA

      Fantini, M. C. de A., Ferreira, F. F., & Gorenstein, A. (2000). Theoretical transmittance of composite Au-Ni'O IND.X' and Au-Co'O IND.X'. In Abstracts. Uppsala: Instituto de Física, Universidade de São Paulo.
    • NLM

      Fantini MC de A, Ferreira FF, Gorenstein A. Theoretical transmittance of composite Au-Ni'O IND.X' and Au-Co'O IND.X'. Abstracts. 2000 ;[citado 2024 jun. 10 ]
    • Vancouver

      Fantini MC de A, Ferreira FF, Gorenstein A. Theoretical transmittance of composite Au-Ni'O IND.X' and Au-Co'O IND.X'. Abstracts. 2000 ;[citado 2024 jun. 10 ]

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