A comparative study of ethylene oxide and diethylene dioxide adsorption on silicon (001) (2007)
- Authors:
- Autor USP: FERRAZ, ARMANDO CORBANI - IF
- Unidade: IF
- DOI: 10.1016/j.susc.2006.11.081
- Assunto: SUPERFÍCIE FÍSICA
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Surface Science
- ISSN: 0039-6028
- Volume/Número/Paginação/Ano: v. 601, n. 13, p. 2576-2579, 2007
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
FERRAZ, A. C. e MIOTTO, R. A comparative study of ethylene oxide and diethylene dioxide adsorption on silicon (001). Surface Science, v. 601, n. 13, p. 2576-2579, 2007Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/j.susc.2006.11.081. Acesso em: 07 out. 2024. -
APA
Ferraz, A. C., & Miotto, R. (2007). A comparative study of ethylene oxide and diethylene dioxide adsorption on silicon (001). Surface Science, 601( 13), 2576-2579. doi:10.1016/j.susc.2006.11.081 -
NLM
Ferraz AC, Miotto R. A comparative study of ethylene oxide and diethylene dioxide adsorption on silicon (001) [Internet]. Surface Science. 2007 ; 601( 13): 2576-2579.[citado 2024 out. 07 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.susc.2006.11.081 -
Vancouver
Ferraz AC, Miotto R. A comparative study of ethylene oxide and diethylene dioxide adsorption on silicon (001) [Internet]. Surface Science. 2007 ; 601( 13): 2576-2579.[citado 2024 out. 07 ] Available from: https://doi.org/10.1016/j.susc.2006.11.081 - Atomic geometries of iii-v compound semiconductor surfaces by total energy and force methods
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Informações sobre o DOI: 10.1016/j.susc.2006.11.081 (Fonte: oaDOI API)
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