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Estudo da viabilidade de fabricação de dispositivos semicondutores baseados em filmes de carbeto de silício crescidos por PECVD (2006)

  • Authors:
  • Autor USP: OLIVEIRA, ALESSANDRO RICARDO DE - EP
  • Unidade: EP
  • Sigla do Departamento: PSI
  • Subjects: SILÍCIO; SEMICONDUTORES
  • Language: Português
  • Abstract: Neste trabalho é estudada a viabilidade de produção de dispositivos eletrônicos baseados em filmes semicondutores de carbeto de silício estequiométrico (a-Si0,5C0,5:H) obtidos por PECVD. A proposta do projeto envolve a realização de uma série de trabalhos que permitam avaliar as potencialidades do a-SiC:H para a fabricação de dispositivos semicondutores simples. Deste modo, desenvolvemos as principais etapas processos para a construção de dispositivos, os quais envolveram a dopagem elétrica por diferentes técnicas e utilizando diferentes elementos dopantes, a corrosão seletiva por plasma e a obtenção um dielétrico apropriado e compatível com a tecnologia do SiC, bem como o desenvolvimento de processos de cristalização, que podem se mostrar fundamentais para melhorar as propriedades dos filmes de a-SiC:H. Com tais processos aprimorados, fabricamos estruturas MOSiC (metal-óxido-carbeto de silício) a partir do SiC cristalizado, utilizando como dielétrico de porta o SiO'IND.2' crescido por oxidação térmica (seca e úmida) dos próprios filmes de carbeto de silício cristalizados. Essas estruturas apresentaram o comportamento típico de um capacitor MOS, com regiões de acumulação, depleção e inversão bem definidas em todos os casos. Também fabricamos heterojunções de filmes de SiC tipo-p (como depositado e tratado termicamente) sobre substratos de Si tipo-n, os quais mostraram boas características retificadoras para as heteroestruturas formadas pelo a-SiC:Hcomo-depositado e tratado termicamente a 550°C. Além do mais, também projetamos, fabricamos, modelamos e caracterizamos TFTs de a-SiC:H. ) De acordo com as caracterizações elétricas observamos que podemos controlar a condutividade do canal, embora os dispositivos ainda precisem ser aprimorados para se obter melhores níveis de corrente. Vemos, portanto que, embora ainda tenham que ser aperfeiçoados, foram construídos com sucesso dispositivos eletrônicos semicondutores baseados em filmes de a-Si0,5C0,5:H obtidos por PECVD
  • Imprenta:
  • Data da defesa: 31.08.2006
  • Acesso à fonte
    How to cite
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    • ABNT

      OLIVEIRA, Alessandro Ricardo de; PAEZ CARREÑO, Marcelo Nelson. Estudo da viabilidade de fabricação de dispositivos semicondutores baseados em filmes de carbeto de silício crescidos por PECVD. 2006.Universidade de São Paulo, São Paulo, 2006. Disponível em: < http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08122006-142624/ >.
    • APA

      Oliveira, A. R. de, & Paez Carreño, M. N. (2006). Estudo da viabilidade de fabricação de dispositivos semicondutores baseados em filmes de carbeto de silício crescidos por PECVD. Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08122006-142624/
    • NLM

      Oliveira AR de, Paez Carreño MN. Estudo da viabilidade de fabricação de dispositivos semicondutores baseados em filmes de carbeto de silício crescidos por PECVD [Internet]. 2006 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08122006-142624/
    • Vancouver

      Oliveira AR de, Paez Carreño MN. Estudo da viabilidade de fabricação de dispositivos semicondutores baseados em filmes de carbeto de silício crescidos por PECVD [Internet]. 2006 ;Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-08122006-142624/

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