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Estudo do comportamento da resistência série e desenvolvimento de novos métodos de caracterização elétrica em dispositivos SOI MOSFET (2001)

  • Authors:
  • Autor USP: NICOLETT, APARECIDO SIRLEY - EP
  • Unidade: EP
  • Sigla do Departamento: PTC
  • Assunto: ENGENHARIA ELÉTRICA
  • Language: Português
  • Abstract: Neste trabalho, é estudado o comportamento da resistência série em transistores SOI NMOSFETs de camada fina, em função das polarizações aplicadas ao substrato e à porta, aliados aos efeitos de baixas temperaturas. Os resultados obtidos desse estudo possibilitaram o desenvolvimento de três novos métodos de caracterização elétrica, os quais foram validados com o auxílio de um simulador numérico bidimensional e aplicados experimentalmente em dispositivos SOI NMOSFETs. Estes dispositivos foram implementados com tecnologia SOI CMOS de 0,5 ´MICROMETROS´. O primeiro método proposto permite a extração da concentração efetiva de dopantes das regiões de LDD (NLDD), utilizando a influência da polarização do substrato dentro destas regiões. Um erro máximo de 11 % foi observado nas simulações numéricas bidimensionais, quando os resultados obtidos pelo método foram comparados com os simulados. Uma análise de sensibilidade do método, em relação aos parâmetros de processos e elétricos, foi realizada, e os resultados obtidos mostraram sua aplicabilidade. O segundo método proposto permite a extração das espessuras da camada de silício (tSi) e do óxido de porta (toxf). Neste caso, tanto os efeitos provocados pelas tensões aplicadas ao substrato como na porta foram utilizados. Um erro máximo de 3% foi observado para tSi e de 15% para toxf nas simulações numéricas bidimensionais, quando os resultados obtidos pelo método foram comparados com os simulados. Aanálise de sensibilidade do método foi realizada, em relação aos parâmetros de processos e elétricos, e os resultados obtidos mostraram sua aplicabilidade. O terceiro método permite a extração das densidades de cargas efetivas nos óxidos de porta (Qox1) e enterrado (Qox2). Um erro máximo de 10 % foi observado para Qox1 e de 15% para Qox2, quando os resultados obtidos pelo método foram comparados com os simulados. ) A análise de sensibilidade do método foi realizada, em relação aos parâmetros de processos e elétricos, e os resultados obtidos mostraram sua aplicabilidade. O terceiro método permite a extração das densidades de cargas efetivas nos óxidos de porta (Qox1) e enterrado (Qox2). Um erro máximo de 10% foi observado para Qox1 e de 15% para Qox2, quando os resultados obtidos pelo método foram comparados com os simulados. Uma análise de sensibilidade do método foi realizada, obtendo-se resultados que validaram o método proposto. Uma característica comum a todos os métodos propostos neste trabalho é a sua simplicidade de implementação, para a obtenção de parâmetros importantes dos dispositivos SOI MOSFETs.
  • Imprenta:
  • Data da defesa: 27.04.2001
  • Acesso à fonte
    How to cite
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    • ABNT

      NICOLETT, Aparecido Sirley. Estudo do comportamento da resistência série e desenvolvimento de novos métodos de caracterização elétrica em dispositivos SOI MOSFET. 2001. Tese (Doutorado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2001. Disponível em: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12112024-155429/. Acesso em: 15 mar. 2026.
    • APA

      Nicolett, A. S. (2001). Estudo do comportamento da resistência série e desenvolvimento de novos métodos de caracterização elétrica em dispositivos SOI MOSFET (Tese (Doutorado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12112024-155429/
    • NLM

      Nicolett AS. Estudo do comportamento da resistência série e desenvolvimento de novos métodos de caracterização elétrica em dispositivos SOI MOSFET [Internet]. 2001 ;[citado 2026 mar. 15 ] Available from: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12112024-155429/
    • Vancouver

      Nicolett AS. Estudo do comportamento da resistência série e desenvolvimento de novos métodos de caracterização elétrica em dispositivos SOI MOSFET [Internet]. 2001 ;[citado 2026 mar. 15 ] Available from: https://teses.usp.br/teses/disponiveis/3/3140/tde-12112024-155429/


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