Study of excimer laser amorphous silicon film crystallization (1991)
- Authors:
- Autor USP: FONSECA, FERNANDO JOSEPETTI - EP
- Unidade: EP
- DOI: 10.1016/s0022-3093(05)80223-6
- Assunto: SEMICONDUTORES
- Language: Inglês
- Imprenta:
- Source:
- Título: Journal of Non-Crystalline Solids
- Volume/Número/Paginação/Ano: v.137-138, n.1 , p.725-8, 1991
- Este periódico é de assinatura
- Este artigo NÃO é de acesso aberto
- Cor do Acesso Aberto: closed
-
ABNT
BIANCONI, M et al. Study of excimer laser amorphous silicon film crystallization. Journal of Non-Crystalline Solids, v. 137-138, n. 1 , p. 725-8, 1991Tradução . . Disponível em: https://doi.org/10.1016/s0022-3093(05)80223-6. Acesso em: 02 jan. 2026. -
APA
Bianconi, M., Fonseca, F. J., Summonte, C., & Fortunato, G. (1991). Study of excimer laser amorphous silicon film crystallization. Journal of Non-Crystalline Solids, 137-138( 1 ), 725-8. doi:10.1016/s0022-3093(05)80223-6 -
NLM
Bianconi M, Fonseca FJ, Summonte C, Fortunato G. Study of excimer laser amorphous silicon film crystallization [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 1991 ;137-138( 1 ): 725-8.[citado 2026 jan. 02 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0022-3093(05)80223-6 -
Vancouver
Bianconi M, Fonseca FJ, Summonte C, Fortunato G. Study of excimer laser amorphous silicon film crystallization [Internet]. Journal of Non-Crystalline Solids. 1991 ;137-138( 1 ): 725-8.[citado 2026 jan. 02 ] Available from: https://doi.org/10.1016/s0022-3093(05)80223-6
Informações sobre o DOI: 10.1016/s0022-3093(05)80223-6 (Fonte: oaDOI API)
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