Silicon nitride coupled plasma deposited from mixtures of silane-nitrogen and silane-ammonia (1999)
Zambom, Luís da Silva 
; Furlan, Rogério ; Mansano, Ronaldo Domingues
Fonte: ICMP 99 : Technical Digest. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assuntos: CIRCUITOS ELÉTRICOS, ELETROQUÍMICA
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ABNT
ZAMBOM, Luís da Silva e FURLAN, Rogério e MANSANO, Ronaldo Domingues. Silicon nitride coupled plasma deposited from mixtures of silane-nitrogen and silane-ammonia. 1999, Anais.. São Paulo: SBMicro/IMAPS, 1999. . Acesso em: 16 nov. 2025.APA
Zambom, L. da S., Furlan, R., & Mansano, R. D. (1999). Silicon nitride coupled plasma deposited from mixtures of silane-nitrogen and silane-ammonia. In ICMP 99 : Technical Digest. São Paulo: SBMicro/IMAPS.NLM
Zambom L da S, Furlan R, Mansano RD. Silicon nitride coupled plasma deposited from mixtures of silane-nitrogen and silane-ammonia. ICMP 99 : Technical Digest. 1999 ;[citado 2025 nov. 16 ]Vancouver
Zambom L da S, Furlan R, Mansano RD. Silicon nitride coupled plasma deposited from mixtures of silane-nitrogen and silane-ammonia. ICMP 99 : Technical Digest. 1999 ;[citado 2025 nov. 16 ]
