Assunto: CIRCUITOS INTEGRADOS
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ABNT
CARDOSO, Alvaro Romanelli e HASENACK, Claus Martin. Avaliação das características físico-químicas e elétricas de filmes de SiO2 depositados por PECVD a partir da reação entre O2 e TEOS. 1997Tradução . . Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/ee818032-72e1-4fd0-a0c4-c516f6aacd44/976983.pdf. Acesso em: 15 nov. 2025.APA
Cardoso, A. R., & Hasenack, C. M. (1997). Avaliação das características físico-químicas e elétricas de filmes de SiO2 depositados por PECVD a partir da reação entre O2 e TEOS. Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/ee818032-72e1-4fd0-a0c4-c516f6aacd44/976983.pdfNLM
Cardoso AR, Hasenack CM. Avaliação das características físico-químicas e elétricas de filmes de SiO2 depositados por PECVD a partir da reação entre O2 e TEOS [Internet]. 1997 ;[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/ee818032-72e1-4fd0-a0c4-c516f6aacd44/976983.pdfVancouver
Cardoso AR, Hasenack CM. Avaliação das características físico-químicas e elétricas de filmes de SiO2 depositados por PECVD a partir da reação entre O2 e TEOS [Internet]. 1997 ;[citado 2025 nov. 15 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/ee818032-72e1-4fd0-a0c4-c516f6aacd44/976983.pdf
