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  • Trabalho de evento

    Analytical model for cylindrical junctionless nanowire FETs (2024)

    Souza, Adelcio Marques de; Celino, Daniel Ricardo; Ragi, Regiane; Romero, Murilo Araujo

    Nome do evento: IEEE Latin American Symposium on Circuits and Systems - LASCAS. Unidade: EESC

    Assuntos: TRANSISTORES, CIRCUITOS INTEGRADOS, NANOTECNOLOGIA, ENGENHARIA MECÂNICA

    PrivadoAcesso à fonteDOIComo citar
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas

    • ABNT

      SOUZA, Adelcio Marques de et al. Analytical model for cylindrical junctionless nanowire FETs. 2024, Anais.. Piscataway, NJ, USA: Escola de Engenharia de São Carlos, Universidade de São Paulo, 2024. Disponível em: http://dx.doi.org/10.1109/LASCAS60203.2024.10506187. Acesso em: 16 nov. 2025.

    • APA

      Souza, A. M. de, Celino, D. R., Ragi, R., & Romero, M. A. (2024). Analytical model for cylindrical junctionless nanowire FETs. In . Piscataway, NJ, USA: Escola de Engenharia de São Carlos, Universidade de São Paulo. doi:10.1109/LASCAS60203.2024.10506187

    • NLM

      Souza AM de, Celino DR, Ragi R, Romero MA. Analytical model for cylindrical junctionless nanowire FETs [Internet]. 2024 ;[citado 2025 nov. 16 ] Available from: http://dx.doi.org/10.1109/LASCAS60203.2024.10506187

    • Vancouver

      Souza AM de, Celino DR, Ragi R, Romero MA. Analytical model for cylindrical junctionless nanowire FETs [Internet]. 2024 ;[citado 2025 nov. 16 ] Available from: http://dx.doi.org/10.1109/LASCAS60203.2024.10506187

  • Trabalho de evento-resumo

    High aspect ratio silicon microchannel definition via ICP plasma etching using SF6/Ar as gas mixture (2021)

    Alvarez, H. S.; Cioldim, F. H.; Silva, A. R.; Diniz, J. A.

    Fonte: Abstracts. Nome do evento: Workshop on Semiconductors and Micro and Nano Technology - SEMINATEC. Unidade: EESC

    Assuntos: TRANSFERÊNCIA DE CALOR, CIRCUITOS INTEGRADOS, MICROELETRÔNICA, ENGENHARIA MECÂNICA

    PrivadoComo citar
    A citação é gerada automaticamente e pode não estar totalmente de acordo com as normas

    • ABNT

      ALVAREZ, H. S. et al. High aspect ratio silicon microchannel definition via ICP plasma etching using SF6/Ar as gas mixture. 2021, Anais.. São Paulo, SP: SBMicro, 2021. Disponível em: https://repositorio.usp.br/directbitstream/af37cdf0-62e5-4e55-90a1-799f83a30bb5/PROD_26257_SYSNO_3153042.pdf. Acesso em: 16 nov. 2025.

    • APA

      Alvarez, H. S., Cioldim, F. H., Silva, A. R., & Diniz, J. A. (2021). High aspect ratio silicon microchannel definition via ICP plasma etching using SF6/Ar as gas mixture. In Abstracts. São Paulo, SP: SBMicro. Recuperado de https://repositorio.usp.br/directbitstream/af37cdf0-62e5-4e55-90a1-799f83a30bb5/PROD_26257_SYSNO_3153042.pdf

    • NLM

      Alvarez HS, Cioldim FH, Silva AR, Diniz JA. High aspect ratio silicon microchannel definition via ICP plasma etching using SF6/Ar as gas mixture [Internet]. Abstracts. 2021 ;[citado 2025 nov. 16 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/af37cdf0-62e5-4e55-90a1-799f83a30bb5/PROD_26257_SYSNO_3153042.pdf

    • Vancouver

      Alvarez HS, Cioldim FH, Silva AR, Diniz JA. High aspect ratio silicon microchannel definition via ICP plasma etching using SF6/Ar as gas mixture [Internet]. Abstracts. 2021 ;[citado 2025 nov. 16 ] Available from: https://repositorio.usp.br/directbitstream/af37cdf0-62e5-4e55-90a1-799f83a30bb5/PROD_26257_SYSNO_3153042.pdf
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