Halo optimization for 0.13 micron SOI CMOS technology (2008)
Agopian, Paula Ghedini Der 
; Arrabaça, Julia Maria; Martino, João Antonio
Source: SBMICRO 2008: Anais. Conference titles: International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO. Unidade: EP
Assunto: MICROELETRÔNICA
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ABNT
AGOPIAN, Paula Ghedini Der e ARRABAÇA, Julia Maria e MARTINO, João Antonio. Halo optimization for 0.13 micron SOI CMOS technology. 2008, Anais.. Pennington: The Electrochemical Society, 2008. . Acesso em: 16 nov. 2025.APA
Agopian, P. G. D., Arrabaça, J. M., & Martino, J. A. (2008). Halo optimization for 0.13 micron SOI CMOS technology. In SBMICRO 2008: Anais. Pennington: The Electrochemical Society.NLM
Agopian PGD, Arrabaça JM, Martino JA. Halo optimization for 0.13 micron SOI CMOS technology. SBMICRO 2008: Anais. 2008 ;[citado 2025 nov. 16 ]Vancouver
Agopian PGD, Arrabaça JM, Martino JA. Halo optimization for 0.13 micron SOI CMOS technology. SBMICRO 2008: Anais. 2008 ;[citado 2025 nov. 16 ]
