Low temperature PECVD deposited amorphous and microcrystalline silicon films (1999)
Dirani, Ely Antonio Tadeu 
; Andrade, Adnei Melges de ; Fonseca, Fernando Josepetti
Fonte: ICMP 99 : technical digest. Nome do evento: International Conference on Microelectronics and Packaging. Unidade: EP
Assunto: DISPOSITIVOS ELETRÔNICOS
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ABNT
DIRANI, Ely Antonio Tadeu e ANDRADE, Adnei Melges de e FONSECA, Fernando Josepetti. Low temperature PECVD deposited amorphous and microcrystalline silicon films. 1999, Anais.. São Paulo: SBMicro, 1999. . Acesso em: 17 nov. 2025.APA
Dirani, E. A. T., Andrade, A. M. de, & Fonseca, F. J. (1999). Low temperature PECVD deposited amorphous and microcrystalline silicon films. In ICMP 99 : technical digest. São Paulo: SBMicro.NLM
Dirani EAT, Andrade AM de, Fonseca FJ. Low temperature PECVD deposited amorphous and microcrystalline silicon films. ICMP 99 : technical digest. 1999 ;[citado 2025 nov. 17 ]Vancouver
Dirani EAT, Andrade AM de, Fonseca FJ. Low temperature PECVD deposited amorphous and microcrystalline silicon films. ICMP 99 : technical digest. 1999 ;[citado 2025 nov. 17 ]
