Caracterização de filmes finos de TiO2 obtidos por deposição química em fase vapor (2015)
Unidade: IPENAssuntos: FILMES FINOS, TITÂNIO, CRESCIMENTO DE CRISTAIS, SILÍCIO, REAÇÕES QUÍMICAS, DIFRAÇÃO POR RAIOS X, MICROSCOPIA ELETRÔNICA DE VARREDURA
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ABNT
CARRIEL, Rodrigo Crociati. Caracterização de filmes finos de TiO2 obtidos por deposição química em fase vapor. 2015. Dissertação (Mestrado) – Universidade de São Paulo, São Paulo, 2015. Disponível em: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-02042015-101635/. Acesso em: 05 dez. 2025.APA
Carriel, R. C. (2015). Caracterização de filmes finos de TiO2 obtidos por deposição química em fase vapor (Dissertação (Mestrado). Universidade de São Paulo, São Paulo. Recuperado de http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-02042015-101635/NLM
Carriel RC. Caracterização de filmes finos de TiO2 obtidos por deposição química em fase vapor [Internet]. 2015 ;[citado 2025 dez. 05 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-02042015-101635/Vancouver
Carriel RC. Caracterização de filmes finos de TiO2 obtidos por deposição química em fase vapor [Internet]. 2015 ;[citado 2025 dez. 05 ] Available from: http://www.teses.usp.br/teses/disponiveis/85/85134/tde-02042015-101635/
